[发明专利]用于工业射线照相术的新产品无效
申请号: | 99107670.2 | 申请日: | 1999-05-27 |
公开(公告)号: | CN1236906A | 公开(公告)日: | 1999-12-01 |
发明(设计)人: | G·M·德罗因;J·劳斯赫 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | G03C1/10 | 分类号: | G03C1/10 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王其灏 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 工业 射线 照相术 新产品 | ||
本发明涉及一种为高能电离辐射曝光而设计的卤化银射线照相术产品、一种新型工业射线照相术系统,和一种得到工业射线照相图像的方法。更具体地说,本发明涉及一种具有提高了潜像保持能力和更高感光速率的用于高能工业射线照相术的产品。
用于由例如玻璃、纸、木材或金属制成的物品的缺损的检查和分析的工业射线照相术是无破坏性的方法。该方法广泛用于航空工业、核工业和石油工业,用于飞机和核反应堆部件和管线中的物料结构和焊缝的缺损的探测。
该方法包括使含有卤化银乳液的射线照相术产品进行高能电离辐射曝光,一般是X射线或γ射线。射线照相乳液对X射线或γ射线的感光度取决于通过卤化银颗粒对这些射线部分的吸收,造成电子二次发射,从而形成内部潜像。该射线照相产品接着进行显影和定影。
与通过再放射可见光的发光屏曝光的医用放射照相胶片不同,用于工业射线照相术的胶片不需要对可见光感光,因此一般没有颜色感光。用于工业射线照相术的胶片既可以直接对电离辐射曝光,也可以通过强化电离辐射的屏曝光。这些强化屏一般由金属制造,增加了可以通过卤化银颗粒吸收的电离辐射的比率。
用于工业射线照相术的产品一般使用主要由粗颗粒(立方体的或其它固体形状)制得的卤化银乳液以吸收尽可能多的穿过乳液层的电离辐射。
还有公知的用于工业射线照相术的胶片包括由特殊的板状颗粒制得的乳液,例如它们公开于例如US专利4883748或专利申请EP757286。当包含板状颗粒乳液的工业射线照相术产品进行电离辐射曝光时,潜像的保持能力被减弱。
本发明的目的是提供一种用于工业射线照相术的新产品,其中通过电离辐射曝光得到的潜像的保持能力得以改善。本发明的另一个目的是提供一种改善射线照相感光度的工业射线照相术产品。
通过本发明这些目的和其它目的可以实现,其中涉及为能量至少是40KeV电离辐射曝光而设计的一种无色-感光射线照相术产品,含有至少50mg/dm2的银,包含涂敷在具有卤化银乳液层的其至少一个侧面上的支撑,该卤化银乳液层中至少50%的颗粒是板状颗粒,且其至少含有0.05mmol/molAg的下式化合物
其中R1和R2各自表示氢原子、包含1至5个碳原子的取代的或非取代的烷基,羟基或苄基,且R3和R4各自表示氢原子或包含1至5个碳原子的烷基,或共同表示构成4至6原子构成的取代的或非取代的杂环的必需的原子。
本发明还涉及一种以工业射线照相术产品形成图像的方法,包括用能量至少是40KeV的电离辐射对照相产品进行曝光以形成潜像,接着进行显影,以形成射线照相图像。
在本发明的一个实施方案中,射线照相术产品被曝光于能量范围在40KeV至20MeV内的射线中。
特别是这种新射线照相术产品出乎意料地显示出由电离辐射曝光得到的改善了的潜像保持能力。本发明的产品也显示出在能量大于或等于400KeV的电离辐射下曝光,感光速率变得更快。
一种或更多种化合物(Ⅰ)可以加入进本发明的射线照相术产品中。
优选地,加入化合物(Ⅰ)的量是0.1mmol/mol至0.5mmol/molAg的范围。
在本发明的范围内,R1和R2可以各自是直链或支链的烷基。R1和R2可以是甲基、乙基、丙基、丁基或戊基,优选甲基。在一个具体的实施方案中,R1是氢原子或羟基,而R2是烷基,优选甲基。
R3和R4可以各自是直链或支链的烷基。R3和R4可以各自是,例如,甲基、乙基、丙基、丁基或戊基。当R3和R4共同地包含有形成杂环必需的原子时,该杂环可以进一步含有氮和(或)氧原子。由此得到的杂环含有5至6个成员,形成,例如吗啉基、吡咯烷基、哌啶基或哌嗪基等。
本发明有用的化合物(Ⅰ)是例如:
在本发明中,所述的射线照相术产品包含有在50至200mg/dm2范围内的银。
本发明的射线照相术产品包括至少一个板状颗粒乳液。“板状颗粒”被规定为具有其表面积大于其它侧面的两个平行侧面的颗粒。这些颗粒其特征在于它们的纵横比(R),就是平均等价圆直径(ECD)与平均颗粒厚度(e)之比。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伊斯曼柯达公司,未经伊斯曼柯达公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/99107670.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:数字精密鉴相器
- 下一篇:用原版图元制作半定制集成电路的系统和方法