[发明专利]制备和补充电化学处理装置中的电解质的方法和装置无效
| 申请号： | 99108509.4 | 申请日： | 1999-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN1240241A | 公开（公告）日： | 2000-01-05 |
| 发明（设计）人： | G·马雷施;H·特拉克;L·维泽尔 | 申请（专利权）人： | 安德里茨－专利管理有限公司 |
| 主分类号： | C25D21/14 | 分类号： | C25D21/14 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢新华,钟守期 |
| 地址： | 奥地利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制备 补充 电化学 处理 装置 中的 电解质 方法 | ||
1、制备及补充电化学处理装置中的电解质的方法，其特征在于，采用粉末润湿机产生真空，将所需的电解质盐和/或化学品加至电解质中。
2、按照权利要求1的方法，其特征在于，通过一个或多个槽、储罐或容器，经一套或多套称重设备，添加所需的电解质盐和/或化学品，以精确查验所需及所消耗的电镀盐和/或化学品量。
3、按照权利要求1或2的方法，其特征在于该电镀盐和/或化学品是连续地添加的。
4、按照权利要求1或2的方法，其特征在于该电镀盐和/或化学品是按照电流消耗水平循环进行添加。
5、按照权利要求1至4的方法，其特征在于在粉末润湿机下游安装的反应槽内的反应时间在1至60分钟之间，优选在1至10分钟之间。
6、按照权利要求1至5的方法，其特征在于电解液是通过泵输送至粉末润湿机的。
7、按照权利要求1至6的方法，其特征在于电解液是通过泵从反应槽送回电解槽的。
8、按照权利要求1至7的方法，其特征在于，将粉末润湿机前和/或后的pH值测定、混浊度测定、光度或电导系数测定的结果，或用X射线荧光法分析溶解盐的结果，用于调节电镀盐和/或化学品的加入量。
9、按照权利要求1至8的方法，其特征在于所用电镀盐和/或化学品是按照对所处理的表面积之比例进行补充的。
10、按照权利要求1至8的方法，其特征在于所消耗的电镀盐和/或化学品是按照对电镀装置中沉积电流的比例进行补充的。
11、用于制备及补充电化学处理装置中电解质的装置，其特征在于，是采用粉末润湿机12将所需的电解质盐和/或化学品添加至电解质中的。
12、按照权利要求11的装置，其特征在于，将一个其内的反应时间在1至60分钟，优选在1至15分钟的反应槽(15)安装于该粉末润湿机(12)的下游。
13、按照权利要求11或12的装置，其特征在于粉末润湿机(12)是安装在通向冷却回路的侧流上。
14、按照权利要求11至13之一的装置，其特征在于，粉末润湿机(12)前和/或后包括了pH值测定、混浊度测定、光度或电导系数测定，或用X射线荧光法对溶解盐的分析，用以调节电镀盐和/或化学品加入量。
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