[发明专利]光催化沉积制备担载钯膜的方法

权利要求书

1.一种光催化沉积制备担载钯膜的方法，其特征是以孔径为0.1～1.0μm的多孔无机材料为支撑体，包括以下步骤：

①将具有光催化特性的多孔无机材料基膜涂覆在上述多孔支撑体表面，基膜的孔径为1～10nm；

②在Pd²⁺的水溶液中加入氨水添加剂，并加入体积含量为10～50％的无水甲醇，用无机酸调节溶液的pH值至3～7，将步骤①已涂覆在支撑体上的基膜置于该溶液中；

③用紫外光照射步骤②中已置于溶液中的基膜，进行光催化反应，其间不断向反应系统中输入隋性气体，并通过该隋性气体将反应产生的氧气带出系统，控制反应液温度为20～80℃，反应进行10～80分钟后取出反复漂洗，得担载的Pd膜。

2.根据权利要求1所述的光催化沉积制备担载钯膜的方法，其特征是所说的多孔材料支撑体是片状支撑体，步骤①中的基膜涂覆在片状支撑体的一个面上而制成片状膜(称膜片)，该膜片是整体浸在步骤②制得的Pd²⁺水溶液中进行反应的，步骤③所说的紫外光是普通光源通过石英玻璃滤光而得。

3.根据权利要求1所述的光催化沉积制备担载钯膜的方法，其特征是所说的多孔材料支撑体是管式支撑体，步骤①中的基膜涂覆在管内壁而成管式膜(称膜管)，步骤②制得的Pd²⁺水溶液是通过蠕动泵不断地送入该膜管的管内与基膜进行反应的，反应液在膜管与溶液贮器之间不断循环，步骤③所说的紫外光是采用点光源经聚光镜分散成平行光束，通过插入膜管内的石英棒传导照射膜管内壁的基膜及管内反应液的。

4.根据权利要求1、2或3所述的光催化沉积制备担载钯膜的方法，其特征是反应液pH值为3-4，反应温度为35-50℃。

5.根据权利要求4所述的光催化沉积制备担载钯膜的方法，其特征是所说的基膜采用锐钛矿型TiO₂材料。