[发明专利]高频低损失电极有效

专利信息
申请号: 99118601.X 申请日: 1999-08-31
公开(公告)号: CN1253393A 公开(公告)日: 2000-05-17
发明(设计)人: 日高青路;阿部真;太田充昭 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H01P3/08 分类号: H01P3/08
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 陈亮
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 高频 损失 电极
【权利要求书】:

1.一种高频低损失电极,其特征在于包含主导体以及沿所述主导体的侧面形成的至少一个分导体,至少一个具有薄膜导体和薄膜电介质交替层叠的多层结构的分导体。

2.如权利要求1所述的高频低损失电极,其特征在于位于最接近于分导体的外侧的分导体具有小于在应用频率的集肤深度δ的π/2倍的宽度。

3.如权利要求1所述的高频低损失电极,其特征在于最接近于所述分导体的外侧的分导体具有小于在应用频率的集肤深度δ的π/3倍的宽度。

4.如权利要求1到8的任一条所述的高频低损失电极,其特征在于高频低损失电极包含多个分导体,并且多个分导体的每一个都具有小于应用频率处的集肤深度δ的π/2倍的宽度。

5.如权利要求1到4的任一条所述的高频低损失电极,其特征在于所述多个分导体如此形成,从而其位于更为接近于外侧的分导体更薄。

6.如权利要求1到5所述的高频低损失电极,其特征在于分电介质分别设置在主导体和与主导体相邻的分导体之间,以及相邻的分导体之间。

7.如权利要求1到6的任一条所述的高频低损失电极,其特征在于主导体和与主导体相邻的分导体之间的间隔,以及相邻的分导体之间的间隔如此形成,从而其位于更为接近于外侧的间隔更短。

8.如权利要求6所述的高频低损失电极,其特征在于多个分电介质如此形成,从而其位于更为接近于外侧的分电介质具有更小的介质常数。

9.如权利要求1到8的任一条所述的高频低损失电极,其特征在于每一个具有多层结构的分导体的薄膜导体如此形成,从而在更为内部的位置的薄膜导体更厚。

10.一种高频低损失电极,其特征在于包含主导体和沿所述主导体的侧面形成的多个分导体,所述分导体如此形成,从而其位于更为接近于外侧的分导体具有更小的宽度,至少一个所述分导体具有薄膜导体和薄膜电介质交替层叠的多层结构。

11.如权利要求10所述的高频低损失电极,其特征在于所述至少一个分导体具有小于在应用频率的集肤深度δ的π/2倍的宽度。

12.如权利要求10所述的高频低损失电极,其特征在于至少一个所述分导体具有小于在应用频率的集肤深度δ的π/3倍的宽度。

13.如权利要求1到5的任一条所述的高频低损失电极,其特征在于分别将分电介质设置在主导体和与主导体相邻的分导体之间,以及相邻的分导体之间。

14.如权利要求10到12所述的任何一种高频低损失电极,其特征在于主导体和与主导体相邻的分导体之间的间隔和相邻的分导体之间的间隔如此设置,从而位于更为接近于外侧的间隔更短。

15.如权利要求13所述的高频低损失电极,其特征在于分电介质如此设置,从而位于更为接近于所述多个分电介质外侧的分电介质具有更小的介质常数。

16.如权利要求10到15的任一条所述的高频低损失电极,其特征在于具有多层结构的分导体和薄膜导体如此形成,从而其位于更为内部的薄膜导体更厚。

17.一种高频低损失电极,其特征在于包括主导体和沿主导体的侧面形成的多个分导体,除了至少是位于最接近于外侧的分导体外,分导体具有薄膜导体和薄膜电介质交替层叠的多层结构,所述分导体如此形成,从而其位于更为接近于外侧的分导体具有更少层叠的薄膜导体。

18.如权利要求1到17所述的任一条高频低损失电极,其特征在于主导体是包含交替层叠薄膜导体和薄膜电介质的薄膜多层电极。

19.如权利要求1到18所述的任一条高频低损失电极,其特征在于主导体和分导体中的至少一个是由超导体制成的。

20.一种高频传输线,其特征在于包含根据如权利要求1到19的任一条所述的高频低损失电极。

21.一种高频谐振器,其特特征在于包含如权利要求1到19的任一条所述的高频低损失电极。

22.一种高频谐振器,其特征在于包含如权利要求20所述的高频传输线,其中所述高频传输线的长度设置为四分之一波长的整数倍。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社村田制作所,未经株式会社村田制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/99118601.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top