[发明专利]用于成象元件的液晶滤光染料无效

专利信息
申请号: 99118717.2 申请日: 1999-09-10
公开(公告)号: CN1248728A 公开(公告)日: 2000-03-29
发明(设计)人: M·J·赫尔伯;W·J·哈里森;R·P·斯卡林格 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: G03C7/00 分类号: G03C7/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 魏金玺,钟守期
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 成象 元件 液晶 滤光 染料
【权利要求书】:

1.一种含有溶剂的分散相,溶剂中分散有结构式I的液晶形成染料:

[D-(X)m]-(Y)n

I

其中:

D是花青染料或巴比土酸羰醇染料以外的色团;

每个Y含有一个离子或非离子助溶取代基或一个在水中的pKa值小于4的基团;

每个X是一个非离子取代基;

n是0至10;

m是0-10;和

所得染料在溶剂中形成一种液晶相。

2.根据权利要求1的分散相,其中染料是结构式II、II-A、II-B、IV、VI、VII、VIII、IX、X、XI、XII或XIII的染料:其中A1和A2是氧代亚甲基或活化亚甲基部分,每个L1-L7独立地表示一个取代或未取代的次甲基基团,M+是一个阳离子,p、q、和r独立地是0或1;

                结构式II-A

             结构式II-B其中W1和Y1是形成环状活化亚甲基/氧代亚甲基部分所需要的原子;R1和R3是芳香或杂芳香基团;R2和R4是吸电子基团;G是O或二氰乙烯基(-C(CN)2)),和p、q、和r独立地是0或1,和每个L1-L7表示一个取代或未取代的次甲基基团;其中A3是氧代亚甲基或活化亚甲基部分;每个L8-L15独立地表示取代或未取代的次甲基基团,Z1表示为完成含至少一个5或6元杂环核的取代或未取代环体系所需的非金属原子;R17表示取代或未取代烷基、芳基或芳烷基基团;前提是结构式IV染料上至少一个取代基含有一个离子或非离子助溶基团或在水中pK值小于4的基团;

             结构式VI其中A5是氧代亚甲基或活化亚甲基,每个L16至L18独立地表示取代或未取代的次甲基,R31是烷基、芳基或芳烷基,Q3表示为完成含至少一个5或6元杂环核的取代或未取代的环体系所需要的非金属原子,每个R32基团独立地表示氢、烷基、环烷基;烯基、取代或未取代芳基、杂芳基或芳烷基、烷硫基、羟基、羟化物、烷氧基、氨基、烷氨基、卤素、氰基、硝基、羧基、酰基、烷氧羰基、氨羰基、氨磺酰基、磺酰氨基,包括形成稠化芳环或杂芳环所需的原子,或含助溶取代基的基团,y是0、1、2、3或4,z是0、1或2;前提是结构式VI染料上至少一个取代基含有一个离子或非离子助溶基团或在水中pK值小于4的基团;

             结构式VII其中A6是氧代亚甲基或活化亚甲基,每个L16至L18独立地表示取代或未取代的次甲基基团,R33是取代或未取代的烷基、芳基或芳烷基,R34是取代或未取代的芳基、烷基或芳烷基基团,每个R35基团独立地表示氢、烷基、环烷基;烯基、取代或未取代芳基、杂芳基或芳烷基、烷硫基、羟基、羟化物、烷氧基、氨基、烷氨基、卤素、氰基、硝基、羧基、酰基、烷氧羰基、氨羰基、氨磺酰基、磺酰氨基,包括形成稠化芳环或杂芳环所需的原子,或含助溶取代基的基团,z是0、1、或2,a是0、1、2、3或4,;前提是结构式VII染料上至少一个取代基含有一个离子或非离子助溶基团或在水中pK值小于4的基团。

                 结构式VIII其中A7表示氧代亚甲基或活化亚甲基部分,每个L19至L21独立地表示取代或未取代的次甲基基团,每个R36基团独立地表示氢、烷基、环烷基;烯基、取代或未取代芳基、杂芳基或芳烷基、烷硫基、羟基、羟化物、烷氧基、氨基、烷氨基、卤素、氰基、硝基、羧基、酰基、烷氧羰基、氨羰基、氨磺酰基、磺酰氨基,包括形成稠化芳环或杂芳环所需的原子,或含助溶取代基的基团,b表示0或1,c表示0、1、2、3或4;前提是结构式VIII染料上至少一个取代基是离子或非离子助溶基团或在水中pK值小于4的基团。

               结构式IX其中A7表示氧代亚甲基或活化亚甲基,每个L19至L21独立地表示取代或未取代的次甲基基团,b是0或1,每个R39基团独立地表示氢、烷基、环烷基;烯基、取代或未取代芳基、杂芳基或芳烷基、烷硫基、羟基、羟化物、烷氧基、氨基、烷氨基、卤素、氰基、硝基、羧基、酰基、烷氧羰基、氨羰基、氨磺酰基、磺酰氨基,包括形成稠化芳环或杂芳环所需的原子,或含助溶取代基的基团,每个R37和R38是取代或未取代的芳基、烷基或芳烷基,d表示0、1、2、3或4;前提是结构式IX染料上至少一个取代基是离子或非离子助溶基团或在水中pK值小于4的基团。

                  结构式X其中A9是氧代亚甲基或活化亚甲基部分,每个L22至L24表示取代或未取代的次甲基基团,e是0或1,每个R40基团独立地表示氢、烷基、环烷基;烯基、取代或未取代芳基、杂芳基或芳烷基、烷硫基、羟基、羟化物、烷氧基、氨基、烷氨基、卤素、氰基、硝基、羧基、酰基、烷氧羰基、氨羰基、氨磺酰基、磺酰氨基,包括形成稠化芳环或杂芳环所需的原子,或含助溶取代基的基团,f是0、1、2、3或4,;前提是结构式X染料上至少一个取代基含有一个离子或非离子助溶基团或pK值小于4的基团。

              结构式XI其中A10是氧代亚甲基或活化亚甲基部分,每个L25至L27独立地表示取代或未取代次甲基,g是0、1或2,每个R37和R38独立地表示取代或未取代的芳基、烷基或芳烷基;前提是结构式XI染料上至少一个取代基含有一个离子或非离子助溶基团或pK值小于4的基团。

              结构式XII其中A11是氧代亚甲基或活化亚甲基部分,每个R41基团独立地表示氢、烷基、环烷基;烯基、取代或未取代芳基、杂芳基或芳烷基、烷硫基、羟基、羟化物、烷氧基、氨基、烷氨基、卤素、氰基、硝基、羧基、酰基、烷氧羰基、氨羰基、氨磺酰基、磺酰氨基,包括形成稠化芳环或杂芳环所需的原子,或含助溶取代基的基团,每个R37和R38表示取代或未取代的芳基、烷基或芳烷基,h是0、1、2、3或4,;前提是结构式XII染料上至少一个取代基含有一个离子或非离子助溶基团或在水中pK值小于4的基团。

                    Q4-N=N-Q5

                    结构式XIII其中每个Q4和Q5表示形成至少一个与偶氮键共轭的杂或碳的稠或非稠5或6元环所需要的原子;前提是结构式XIII染料上至少一个取代基含有一个离子或非离子助溶基团或在pK值小于4的基团。

3.一种摄影元件,它含有一个支承至少一个光敏卤化银感光乳剂层和至少一个非光敏层的片基,其中至少一个所说层含有一种根据任何上述权利要求的分散相。

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