[发明专利]剥离剂、及其剥离方法、剥离剂循环设备及剥离剂控制装置

权利要求书

1.一种剥离剂，包括有机胺化合物、质子二醇醚化合物、非质子多极性化合物和烷基吡咯烷酮化合物，其中有机胺化合物的含量为10～35wt％，质子二醇醚化合物和非质子多极性化合物的总含量为60～85wt％，烷基吡咯烷酮化合物的含量为0.1～5wt％，每个都以剥离剂的总重量为基础。

2.根据权利要求1的剥离剂，其中烷基吡咯烷酮化合物的含量为剥离剂总重量的0.3～1wt％。

3.根据权利要求1的剥离剂，其中有机胺化合物为选自以下组中的至少一个：脂肪族伯胺、脂肪族仲胺、脂肪族叔胺、脂环胺、芳香胺、杂环胺以及羟基胺。

4.根据权利要求1的剥离剂，其中质子二醇醚化合物为选自以下组中的至少一个：乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、乙二醇单苯醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单丙醚和二丙二醇单丁醚。

5.根据权利要求1的剥离剂，其中非质子多极性化合物为选自以下组中的至少一个：二甲基亚砜、二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺、二甲基咪唑烷酮、环砜烷、和N-甲基吡咯烷酮。

6.根据权利要求1的剥离剂，其中烷基吡咯烷酮化合物为选自以下组中的至少一个：N-环己基-2-吡咯烷酮、N-辛基-2-吡咯烷酮、N-十二烷基-2-吡咯烷酮。

7.一种剥离抗蚀剂的方法，其中抗蚀剂层淀积其上的衬底与权利要求1到6的任何一种剥离剂接触。

8.一种剥离抗蚀剂的方法，其中其上已顺序地淀积有预定的材料层图形和用做形成材料层图形的腐蚀掩模的抗蚀剂图形的衬底与权利要求1到6的任何一种剥离剂接触。

9.根据权利要求8的方法，其中在衬底接触剥离剂之前使用等离子体在抗蚀剂图形上进行灰化工艺。

10.根据权利要求8或9的方法，其中材料层由选自以下组中的至少一个形成：硅(Si)、钽(Ta)、钛(Ti)、铬(Cr)、钼(Mo)、钨(W)、锡(Sn)、镍(Ni)、铝(Al)、氧化硅(Si_xO_y)、氮化硅(Si_xN_y)以及氧化铟锡(ITO)。

11.一种剥离剂再循环设备，包括：

第一蒸馏单元，从废剥离剂中除去水；

第二蒸馏单元，接收已从第一蒸馏单元除去水的废剥离剂，并从废剥离剂中除去溶解的抗蚀剂；以及

补充单元，向第二蒸馏单元提供的废剥离剂中补充第一成分和第二成分以再生废剥离剂。

12.根据权利要求11的剥离剂再循环设备，其中第一蒸馏单元包括：

从废剥离剂中蒸馏掉水的蒸馏塔；

将含有蒸馏塔中蒸发水蒸气的蒸馏气体凝结为含有水的蒸馏液的冷凝器；

如果需要将含有水的蒸馏液返回到蒸馏塔的反馈管；

存储冷凝器凝结的水的水回收器；以及

降低蒸馏塔中的压力以降低水的蒸发温度的真空泵。

13.根据权利要求11的剥离剂再循环设备，其中第二蒸馏单元包括：

蒸馏由第一蒸馏单元提供的已除去水的废剥离剂的蒸馏塔；

冷凝蒸馏塔中蒸馏的剥离剂的冷凝器；

如果需要将冷凝器凝结的蒸馏的剥离剂返回到蒸馏塔的反馈管；

存储由冷凝器冷凝的剥离剂的剥离剂收容器；以及

降低蒸馏塔中的压力以降低废剥离液的蒸发温度的真空泵。

14.根据权利要求11的剥离剂再循环设备，其中补充单元包括：

分析第二蒸馏单元提供的蒸馏的剥离剂的组分的分析装置；

在分析的组分的基础上补充第一种成分和第二种成分的补充装置；以及

将蒸馏的剥离剂与补充的第一种和第二种成分混合的混合装置。

15.根据权利要求11的剥离剂再循环设备，其中第一种和第二种成分分别为有机胺化合物和非质子多极性化合物。