[发明专利]光盘和使用该光盘的光盘设备无效

专利信息
申请号: 99119710.0 申请日: 1999-07-15
公开(公告)号: CN1246701A 公开(公告)日: 2000-03-08
发明(设计)人: 高峰浩一;山田真一;石田隆;中村敦史;西胁青儿 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: G11B7/007 分类号: G11B7/007;G11B7/09
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 韩宏
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光盘 使用 设备
【权利要求书】:

1.一种包括迹道和沟槽光盘,沟槽以等于或大于约λ/NA的间距形成,其中,在沿大体上垂直于迹道的两个方向之一的方向上相对于迹道位移一预定量的位置处设置第1凹坑阵列,以预定的间距形成第1凹坑阵列,此处,预定间距是取值在从约0到约λ/NA范围内的沟槽间距的函数,

其中,在下述位置处设置第2凹坑阵列,所述位置是在沿大体上垂直于迹道的两个方向中的另一个方向上相对于迹道以一预定量位移的位置,以预定间距形成第2凹坑阵列,此处,预定间距是取值在从约0到约λ/NA范围内的沟槽间距的函数,

其中,λ是发射在光盘上光束的波长;NA是透镜的数值孔径。

2.根据权利要求1的光盘,其特征是,第1和第2凹坑阵列设置在地址区域和数据区域之间,地址区域用于指示光盘上迹道之一的记录信息,数据区域用于记录数据。

3.根据权利要求1的光盘,其特征是,该光盘包括:

形成在这样位置处的第1地址区域,所述位置是在沿大体上垂直于迹道的两个方向之一的方向上相对于每个迹道位移一预定量的位置,迹道之一的定位信息被记录在第1地址区域内;和,

形成在沿大体上垂直于迹道的两个方向中的另一个方向上相对于每个迹道以一预定量位移的位置处的第2地址区域,第1和第2地址区域的每一个包括用于产生再现时钟的PLL同步区域,并且

第1凹坑阵列设置在第1地址区域内的PLL同步区域;

第2凹坑阵列设置在第2地址区域内的PLL同步区域。

4.根据权利要求1的光盘,其特征是,第1凹坑阵列内的每个凹坑具有大体上与第2凹坑阵列中的每个凹坑一样的形状。

5.根据权利要求1的光盘,其特征是,

第1凹坑阵列中的凹坑再现时间是再现时钟周期的n倍;

第2凹坑阵列中的凹坑再现时间是再现时钟周期的n倍;

第1凹坑阵列中的相邻凹坑之间的间隔的再现时间是再现时钟周期的m倍;并且,

第2凹坑阵列中的相邻凹坑之间的间隔的再现时间是再现时钟周期的m倍;此处n和m是自然数。

6.根据权利要求5的光盘,其特征是,n为3,m为4。

7.根据权利要求5的光盘,其特征是,n为4,m为3。

8.根据权利要求1的光盘,其特征是,

第1凹坑阵列的预定间距是在约0.96μm到1.035μm范围内;

第2凹坑阵列的预定间距是在约0.96μm到1.035μm范围内;

λ约为660nm;NA约为0.6。

9.根据权利要求1的光盘,其特征是,

第1凹坑阵列的预定间距是在约0.61μm到0.667μm范围内;

第2凹坑阵列的预定间距是在约0.61μm到0.667μm范围内;

λ约为425nm;NA约为0.6。

10.根据权利要求1的光盘,其特征是,沟槽的间距在约λ/NA至λ/NA×1.9的范围内。

11.一种光盘设备,包括:

再现信号产生部分,用于使光束聚焦在光盘上,以再现记录在光盘上的信息;

包括迹道和沟槽的光盘,沟槽以等于或大于约λ/NA的间距形成,

其中,在沿大致垂直于迹道的两个方向之一的方向上相对于每个迹道以一预定量位移的位置处设置第1凹坑阵列,以预定间距形成第1凹坑阵列,此处,预定间距是取值从约0到约λ/NA范围内的沟槽间距的函数;

其中,在沿大致垂直于迹道的两个方向的另一个方向上相对于迹道以一预定量位移的位置处设置第2凹坑阵列,以预定间距形成第2凹坑阵列,此处,预定间距是取值从约0到约λ/NA范围内的沟槽间距的函数;

跟踪偏离检测部分,用于根据在由再现信号产生部分再现的信息、涉及第1和第2凹坑阵列的信息,检测光束和迹道中心之间的偏移;其中,λ是发射在光盘上光束的波长;NA是透镜的数值孔径。

12.根据权利要求11的光盘设备,其特征是,

光盘设备进一步包括跟踪伺服部分,用于控制光束,以便依据表示光束和迹道中心之间偏移的跟踪误差信号跟随迹道,并且,

根据由跟踪偏离检测部分检测的在光束和迹道中心之间的偏移,跟踪伺服部分改变光束的目标位置,以使光束大体上定位于迹道的中心。

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