[发明专利]一种合成的层状二氧化硅分子筛无效
申请号: | 99120816.1 | 申请日: | 1999-09-22 |
公开(公告)号: | CN1288857A | 公开(公告)日: | 2001-03-28 |
发明(设计)人: | 程谟杰;包信和;谭大力;林励吾 | 申请(专利权)人: | 中国科学院大连化学物理研究所 |
主分类号: | C01B33/113 | 分类号: | C01B33/113 |
代理公司: | 中国科学院沈阳专利事务所 | 代理人: | 张晨 |
地址: | 116023 *** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 合成 层状 二氧化硅 分子筛 | ||
本发明涉及一种新型层状全硅分子筛(命名为“SKLC-2”)以及应用六亚甲基亚胺为模板剂的制备方法。
沸石分子筛是一种无机微孔晶体材料,由于它们结构和性能特点,已被广泛应用在催化、吸附和离子交换等各个领域。分子筛的酸性使得它们作为催化剂应用于各种烃类的反应,特别是利用分子筛规整的孔系统可以实现择型催化反应。
沸石分子筛一般是由SiO4,四面体和AlO4四面体通过公共的氧原子连接形成的具有严格二维晶格结构。分子筛因AlO4而荷的负电可由质子、碱金属离子或者是碱土金属离子中和。通常一种沸石分子筛的硅铝比可以在一定范围内改变。分子筛的骨架结构也可以全部由SiO4四面体通过公共的氧原子连接形成,如全硅MFI分子筛Silicalite-1,全硅MEL分子筛Silicalite-2。
本发明的目的是提供一种合成的层状二氧化硅分子筛,其具有与以往分子筛不同的结构,且可以通过或不通过金属离子修饰用作催化剂。
本发明提供了一种合成的层状二氧化硅分子筛,其原粉具有下述的X-射线粉未衍射特征:
d值 () 衍射相对强度(I/I0%)
20.3±0.50 100
9.93±0.20 47±30
7.19±0.10 32±30
6.35±0.10 38±30
4.97±0.10 32±20
4.53±0.10 100
4.00±0.10 44±20
3.22±0.10 40±20
3.18±0.10 33±20
活化或离子交换后具有下述的X-射线粉未衍射特征
d值() 衍射相对强度(I/I0%)
33.7±3.0 37±20
17.5±1.50 40±20
12.5±0.10 55±20
11.1±0.10 25±20
8.79±0.10 45±30
6.23±0.10 50±30
3.91±0.05 35±30
3.41±0.05 100
3.19±0.05 30±20
本发明中所述二氧化硅分子筛原粉中还可以含有杂质,组成为(0.0005-0.01)Na2O∶(1-4)R∶SiO2,其中R代表六亚甲基亚胺。本发明还提供了上述层状二氧化硅分子筛的制备方法,其特征在于:由氢氧化钠、去离子水和六亚甲基亚胺制备混合溶液,并搅拌均匀,在室温和搅拌下,向上述溶液中加入硅溶胶,得到的混合物在室温下继续搅拌一小时,反应混合物的摩尔组成比为:H2O/SiO2=10-100;OH-1/SiO2=0.01-1.0;M/SiO2=0.01-2.0;R/SiO2=0.05-1.0;其中M代表碱金属或碱土金属,R代表六亚甲基亚胺;反应混合物在高压釜内150℃晶化24-72小时,晶化产物分离,去离子水洗涤至PH值为7-9,然后在120℃干燥,分子筛在空气中540℃焙烧除去有机组分。
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