[发明专利]一种合成的层状二氧化硅分子筛无效

专利信息
申请号: 99120816.1 申请日: 1999-09-22
公开(公告)号: CN1288857A 公开(公告)日: 2001-03-28
发明(设计)人: 程谟杰;包信和;谭大力;林励吾 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: C01B33/113 分类号: C01B33/113
代理公司: 中国科学院沈阳专利事务所 代理人: 张晨
地址: 116023 *** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 合成 层状 二氧化硅 分子筛
【说明书】:

发明涉及一种新型层状全硅分子筛(命名为“SKLC-2”)以及应用六亚甲基亚胺为模板剂的制备方法。

沸石分子筛是一种无机微孔晶体材料,由于它们结构和性能特点,已被广泛应用在催化、吸附和离子交换等各个领域。分子筛的酸性使得它们作为催化剂应用于各种烃类的反应,特别是利用分子筛规整的孔系统可以实现择型催化反应。

沸石分子筛一般是由SiO4,四面体和AlO4四面体通过公共的氧原子连接形成的具有严格二维晶格结构。分子筛因AlO4而荷的负电可由质子、碱金属离子或者是碱土金属离子中和。通常一种沸石分子筛的硅铝比可以在一定范围内改变。分子筛的骨架结构也可以全部由SiO4四面体通过公共的氧原子连接形成,如全硅MFI分子筛Silicalite-1,全硅MEL分子筛Silicalite-2。

本发明的目的是提供一种合成的层状二氧化硅分子筛,其具有与以往分子筛不同的结构,且可以通过或不通过金属离子修饰用作催化剂。

本发明提供了一种合成的层状二氧化硅分子筛,其原粉具有下述的X-射线粉未衍射特征:

d值  ()                         衍射相对强度(I/I0%)

20.3±0.50                         100

9.93±0.20                         47±30

7.19±0.10                         32±30

6.35±0.10                         38±30

4.97±0.10                         32±20

4.53±0.10                         100

4.00±0.10                         44±20

3.22±0.10                         40±20

3.18±0.10                         33±20

活化或离子交换后具有下述的X-射线粉未衍射特征

d值()                         衍射相对强度(I/I0%)

33.7±3.0                          37±20

17.5±1.50                         40±20

12.5±0.10                         55±20

11.1±0.10                         25±20

8.79±0.10                         45±30

6.23±0.10                         50±30

3.91±0.05                         35±30

3.41±0.05                         100

3.19±0.05                         30±20

本发明中所述二氧化硅分子筛原粉中还可以含有杂质,组成为(0.0005-0.01)Na2O∶(1-4)R∶SiO2,其中R代表六亚甲基亚胺。本发明还提供了上述层状二氧化硅分子筛的制备方法,其特征在于:由氢氧化钠、去离子水和六亚甲基亚胺制备混合溶液,并搅拌均匀,在室温和搅拌下,向上述溶液中加入硅溶胶,得到的混合物在室温下继续搅拌一小时,反应混合物的摩尔组成比为:H2O/SiO2=10-100;OH-1/SiO2=0.01-1.0;M/SiO2=0.01-2.0;R/SiO2=0.05-1.0;其中M代表碱金属或碱土金属,R代表六亚甲基亚胺;反应混合物在高压釜内150℃晶化24-72小时,晶化产物分离,去离子水洗涤至PH值为7-9,然后在120℃干燥,分子筛在空气中540℃焙烧除去有机组分。

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