[发明专利]干涉仪和采用干涉仪的测量方法无效
申请号: | 99124887.2 | 申请日: | 1999-11-17 |
公开(公告)号: | CN1254088A | 公开(公告)日: | 2000-05-24 |
发明(设计)人: | 鸣海达也 | 申请(专利权)人: | 株式会社三丰 |
主分类号: | G01B9/02 | 分类号: | G01B9/02 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 李家麟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 干涉仪 采用 测量方法 | ||
1.一种应用激光干涉测量工件尺寸的干涉仪,其特征在,它于包括:
激光源,
白光源,
第一光学组件,用于将来自所述激光源的激光引到工件上和用作激光干涉基准的第一基准表面上,
第二光学组件,用于将来自所述白光源的白光引到工件上和用作白光干涉基准的第二基准表面上,
工件调节装置,用于调节工件相对于所述第一基准表面的斜率,
干涉条纹检测装置,用于检测所述第一光学组件产生的激光干涉条纹和所述第二光学组件产生的白光干涉条纹,以及
控制装置,用于控制所述第一与第二光学组件、工件调节装置和干涉条纹检测装置,以便连续执行:应用激光干涉作工件位置调节,应用白光干涉作工件初步测量,及应用激光作工作主要测量。
2.如权利要求1所述的干涉仪,其特征在于,所述第一光学组件包括第一分束器,用于将来自所述激光源的激光分成投射在所述工件上的激光和投射在所述第一基准表面上的激光,以及
所述第二光学组件包括第二分束器,用于将来自所述白光源的白光分成投射在所述工件上的白光和投射在所述第二基准表面上的白光。
3.如权利要求2所述的干涉仪,其特征在于,所述第一与第二分束器是同一个分束器。
4.如权利要求3所述的干涉仪,其特征在于,它进一步包括一装置,用于将所述分束器辐射的激光引到所述第一基准表面上,而将所述分束器辐射的白光引到所述第二基准表面上。
5.如权利要求2所述的干涉仪,其特征在于:
配备的第一光闸用于在所述第一光学组件中的所述激光源与所述第一分束器之间的光路上接通与切断激光,
配备的第二光闸用于在所述第二光学组件中的所述白光源与所述第二分束器之间的光路上接通与切断白光,以及
所述控制装置在所述工件位置调节步骤与主要测量步骤期间通过控制所述第一光闸打开和所述第二光闸关闭而导入激光,并在所述初步测量步骤期间通过控制所述第一光闸关闭和所述第二光闸打开而导入白光。
6.如权利要求2所述的干涉仪,其特征在于,它进一步包括:
一移动装置,用于改变从所述第二分束器至所述第二基准表面的光路,以及
检测光距变化的装置。
7.如权利要求1所述的干涉仪,其特征在于,所述第二基准表面是一平面镜。
8.如权利要求1所述的干涉仪,其特征在于,所述第二基准有面是一直角形反射平面。
9.如权利要求1所述的干涉仪,其特征在于,所述第一与第二基准表面是同一个表面。
10.一种应用干涉仪测量工件的方法,其特征在于,所述方法包括:
把所述工件置于干涉仪内,
将激光导入干涉仪,并应用激光干涉调节工件相对于基准表面的位置,
将白光导入干涉仪,并应用白光干涉对工件作初步测量,以及
将激光导入所述干涉仪,并应用激光干涉对所述工件作主要测量,其中,在同一台干涉仪中连续进行位置调节、初步测量和主要测量。
11.如权利要求10所述的方法,其特征在于,调节工件位置包括以下步骤:
粗调,用于调节所述基准表面小孔成像与工件小孔成像之间的位置差,以及
细调,用于将所述激光干涉产生的工件表面的干涉条纹调节至预置值。
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