[发明专利]含环吡咯成色剂和含官能度组合的防褪色剂的照相元件无效
申请号: | 99126419.3 | 申请日: | 1999-12-17 |
公开(公告)号: | CN1257221A | 公开(公告)日: | 2000-06-21 |
发明(设计)人: | A·J·穆拉;S·W·科万 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | G03C1/005 | 分类号: | G03C1/005 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 关立新,罗才希 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 吡咯 成色 官能 组合 褪色 照相 元件 | ||
1.一种卤化银照相元件,其中含有承载在支持体上的光敏卤化银乳剂层和与稳定剂相结合的形成染料的环吡咯成色剂,该稳定剂具有如下的分子式S:
其中:
R1代表一个烷基或环烷基、链烯或芳基;
R2和R3各代表一个氢原子或一个取代基;
L代表一个共价键或一个二价连接基团;
X代表O,S,SO,SO2,或NR4,或-O-X2-O-;
R4代表H、烷基,-CH2CH(OH)CH2OR5,或-COR6;
R5和R6代表烷基;
Y代表一个氢键给予的基团;
X2代表BR7,PR8,P(O)R9,SO或SO2;
R7-R9各代表苯氧基,它可被1至3个烷基、烷氧基或卤素基团取代;
Z1和Z2各代表:一个1至3个碳原子的亚烷基,它可被取代,条件是在环中的碳原子总数为3至6个;
P和Q各代表一个0至4的整数。
2.权利要求1的照相元件,其中稳定剂组合物中另含有如下分子式R的化合物:
其中:
每个R10独立地代表一个氢原子、烷基或环烷基、链烯基或芳基;
每个R11独立地代表一个卤素原子、烷基、链烯基、烷氧基、芳基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、酰基、酰胺基、磺酰基、磺酰胺基或羟基;
每个m各是一个0至4的整数;及
A代表一个亚烷基,在它的直链结构中有1至10个碳原子。
3.权利要求1或2的照相元件,其中稳定剂组合物中另含有如下分子式I的化合物:
其中:
R14是烷基、链烯基或芳基;
R15是一个取代其;及
m是一个0至5的整数
4.权利要求1至3的照相元件,其中形成染料的成色剂有如下的结构式M:
其中:
R12、是氢、一个取代基或一个非扩散性基团;
R13是一个非扩散性基团或一个稠合苯环;及
X是氢或一个偶合脱落基团,条件是X、R12和R1含碳的数目足以使成色剂固定在乳剂层中;及
Za、Zb和Zc独立地是一个取代的或未取代的次甲基,=N-,-c=或-NH-,条件是Za-Zb键或Zb-Zc键之一是双键,而另一个是单键,而且当Zb-Zc键是碳-碳双键时,它可以是芳香环的一部份,和Za、Zb和Zc中至少一个代表一个与R13连接的次甲基。
5.权利要求4的照相元件,其中形成染料的成色剂有如下结构式MI
其中:
R12是氢或一个取代基;
R13是一个非扩散性基团;及
X是氢或一个偶合脱落基团。
6.权利要求4的照相元件,其中形成染料的成色剂有如下结构式MII:其中:R12是氢或一个取代基;R13是一个非扩散性基团;及X是氢或一个偶合脱落基团。
7.权利要求1的照相元件,其中化合物S的环“C”有如下结构:
8.权利要求1的照相元件,其中Y是SO2NH。
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