[发明专利]含改善染料稳定性的黄成色剂的卤化银元件无效

专利信息
申请号: 99126420.7 申请日: 1999-12-17
公开(公告)号: CN1258020A 公开(公告)日: 2000-06-28
发明(设计)人: B·B·鲁斯尔;M·J·普洛瑟伊斯 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: G03C1/005 分类号: G03C1/005
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 关立新,罗才希
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 改善 染料 稳定性 成色 卤化 银元
【说明书】:

本发明涉及含有形成黄染料的成色剂的彩色照相材料或元件,成色剂在显影时形成抗褪色稳定性提高的染料。

一般照相元件含多层光敏照相卤化银乳剂,这些层的一层或多层分别对蓝光、绿光和红光经光谱增感。蓝、绿和红光敏层一般分别含形成黄、品红或青染料的成色剂。

为形成彩色照相影像,彩色照相材料以成像方式曝光,和在含芳香伯胺彩色显影剂的彩色显影浴中冲洗加工。影像染料是由这些成色剂与彩色显影剂的氧化产物通过偶合反应形成。一般,要选择影像成色剂以形成对热和光有很好的稳定性的影像染料,并且希望它们有一个含合适吸收峰和低的不愿有的副吸收的吸收曲线,以提供有很好彩色再现的彩色照相影像。

本发明牵涉改善黄影像染料的光稳定性。成色剂在与经氧化的彩色显影剂反应时形成黄染料,在以下有代表性的专利和出版物中有述,如U.S.2,298,443;2,407,210;2,875,057;3,048,194;3,265,506;3,447,928;4,022,620;4,443,536和“Farbkuppler-eine LiteratureUbersicht”(成色剂-文献综述),Agfa Mitteilungen出版,第III卷,pp.112-126(1961)。形成黄染料成色剂的其他例子在ResearchDisclosure(研究报告)No.365,36544号,1994年9月,SectionX-B(6)中有述。这些成色剂一般是开链的酮亚甲基化合物。

黄影像染料抗褪色的能力对于彩色影像的寿命是很重要的,特别是对那些预定要长期保存或不断受白光照射的,例如专业肖像等。如果黄染料与照相元件其他染料的褪色速度匹配得不好,黄染料褪色会使由黄染料作为一个组份形成的影像改变色调。

迄今为止,改善黄影像染料光稳定性的方法之一,是在成色剂分散体中加入一种或多种稳定附加物。为此目的合适的化合物在ResearchDisclosure No.365,36544号,1994年9月,Section X-D中有更全面的描述。但是,稳定附加物对感光测试会产生不利的影响。而且每种必须加到乳剂层中的附加物要增加产品的成本和附加的制造步骤。U.S.4,207,111涉及含邻位氯代酰苯胺和芳基醚取代基的成色剂,据称可达到光牢度。

但是仍然需要这样一种形成黄影像染料的成色剂,它在显影时形成光稳定性提高和理想色调的染料。特别希望能提供这样的染料,它只要求很少量或不用稳定附加物。

本发明提供一种含有卤化银乳剂层的照相元件,乳剂层中有与其结合的形成黄染料的成色剂,该成色剂是在其乙酰苯胺环上氮原子的邻位含有烷氧基或芳氧基取代基的酰基乙酰苯胺,所述的环另含具有苯并二氢吡喃醚基团的取代基。

本发明照相元件中所用的成色剂改进了在冲洗加工时形成的黄染料的长期稳定性。在照相元件中必须用的光稳定附加物的量明显减少,或在某些情况可以不用。所用成色剂是高活性的和具有所希望的色调。制备成色剂的原始材料是容易得到的。

本发明照相元件中所用的成色剂是形成黄染料的成色剂,它是一种酰基乙酰苯胺化合物,在乙酰苯胺环上氮原子的邻位含有烷氧基或芳氧基取代基,所述的环另含具有苯并二氢吡喃醚基团的取代基。烷氧基或芳氧基取代基和含苯并二氢吡喃醚的取代基相结合提供的成色剂,具有优良的光稳定性和所希望的色调。氮原子邻位上的取代基和含苯并二氢吡喃醚基取代基优选含至少一个支链烷基,更优选是含至少二个支链烷基,最优选至少三个支链烷基。这些基团优选在α-碳位分枝形成叔碳或季碳。在一个实施方案中由如下分子式代表成色剂:

Y是不干扰所要的成色剂活性的任何取代基。优选的Y是卤素或烷氧基和q是0或1。X是氢或偶合脱落基团,这基团可在与氧化的显影剂反应时从成色剂上脱开。在偶合位置氢的存在会造成四当量成色剂,而另一个偶合脱落基团的存在通常造成二当量成色剂。这样的偶合脱离基团的代表性的类型包括,例如氯、烷氧基、芳氧基、杂氧基、磺氧基、酰氧基、酰基、杂环基、磺酰胺基、巯基四唑、苯并噻唑、巯基丙酸、膦酰氧基、芳硫基和芳基偶氮基。这些偶合脱落基团在技术上有述,例如在U.S.2,455,169;3,227,551;3,432,521;3,476,563;3,617,291;3,880,661;4,052,212和4,134,766;及在英国专利和公布的申请Nos.1,466,728;1,531,927;1,533,039;2,006,755A和2,017,704A,这些文献的内容在这里引用作为参考。优选的偶合脱落基团是N-杂环和烷氧基。

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