[发明专利]用于光致抗蚀剂的交联单体,及使用其制备光致抗蚀剂聚合物的方法有效
申请号: | 99126687.0 | 申请日: | 1999-12-24 |
公开(公告)号: | CN1258670A | 公开(公告)日: | 2000-07-05 |
发明(设计)人: | 郑载昌;郑旼镐;白基镐;孔根圭;李根守 | 申请(专利权)人: | 现代电子产业株式会社 |
主分类号: | C07C57/145 | 分类号: | C07C57/145;C08F222/06;G03F7/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 丁业平,王维玉 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 光致抗蚀剂 交联 单体 使用 制备 聚合物 方法 | ||
1.一种用于光致抗蚀剂聚合物的化学式1的交联单体,
<化学式1>其中R′和R″分别为氢或甲基;m是一从1至10的数;及R是选自直链或支链的C1-C10烷基,直链或支链的C1-C10酯,直链或支链的C1-C10酮,直链或支链的C1-C10羧酸,直链或支链的C1-C10缩醛,直链或支链的含有至少一个羟基的C1-C10烷基,直链或支链的含有至少一个羟基的C1-C10酯,直链或支链的含有至少一个羟基的C1-C10酮,直链或支链的含有至少一个羟基的C1-C10羧酸,及直链或支链的含有至少一个羟基的C1-C10缩醛。
2.根据权利要求1的交联单体,该交联单体选自化学式2及化学式3的化合物。
<化学式2>
<化学式3>
3.一种光致抗蚀剂共聚物,该共聚物包括两种或多种脂环族烯烃衍生物与根据权利要求1的交联单体的聚合反应产物。
4.根据权利要求3的光致抗蚀剂共聚物,其中所述脂环族烯烃衍生物包括下式化学式4的化合物:
<化学式4>其中k和n分别为1或2;p是0至5的数;R5和R6分别代表氢或甲基;R1,R2,R3和R4分别代表氢,直链或支链的C1-C10烷基,直链或支链的C1-C10酯,直链或支链的C1-C10酮,直链或支链的C1-C10羧酸,直链或支链的C1-C10缩醛,直链或支链的含有至少一个羟基的C1-C10烷基,直链或支链的含有至少一个羟基的C1-C10酯,直链或支链的含有至少一个羟基的C1-C10酮,直链或支链的含有至少一个羟基的C1-C10羧酸,及直链或支链的含有至少一个羟基的C1-C10缩醛。
5.根据权利要求3的光致抗蚀剂共聚物,其中所述聚合产物进一步包括顺丁烯二酸酐的重复单元。
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