[发明专利]自由流动研磨孔抛光无效
| 申请号： | 99126912.8 | 申请日： | 1999-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN1261019A | 公开（公告）日： | 2000-07-26 |
| 发明（设计）人： | J·S·肖 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | B24C3/32 | 分类号： | B24C3/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张天安,黄力行 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 自由 流动 研磨 抛光 | ||
1.抛光孔(20)的方法，该孔具有确定孔的壁(22)，该方法包括下列步骤：
提供许多研磨颗粒(12)；
使许多研磨颗粒(12)悬浮在自由流动介质(14)中，以便产生研磨颗粒流动介质混合物；和
输送研磨颗粒流动介质混合物(12、14)通过孔(20)，以便抛光孔壁(22)。
2.按权利要求1的方法，其特征在于，许多研磨颗粒(12)包括含有研磨颗粒的开孔聚氨基甲酸酯。
3.抛光多孔物品的抛光系统包括：
研磨颗粒成分(12)；
与研磨颗粒成分混合的载体介质(14)，以便产生研磨颗粒载体介质混合物；和
输送(16、24)研磨颗粒载体介质混合物(12、14)通过带孔物品(18)中由孔壁(22)确定的孔(20)的装置，以便改善空气流量和物品的有效冷却效果。
4.按权利要求3的抛光系统，其特征在于，研磨颗粒成分(12)包括含有研磨颗粒的开孔聚氨基甲酸酯。
5.按权利要求4的抛光系统，其特征在于，研磨颗粒(12)具有质量和速度。
6.按权利要求3的抛光系统，其特征在于，研磨颗粒(12)主要去除孔壁(22)的高部位。
7.按权利要求3的抛光系统，其特征在于，载体介质(14)包括自由流动介质。
8.按权利要求3的抛光系统，其特征在于，输送研磨颗粒流动介质混合物的装置包括一回流泵(24)，以便持续搅拌研磨颗粒载体介质混合物(12、14)。
9.按权利要求8的抛光系统，其特征在于，输送研磨颗粒流动介质混合物的装置还包括回流管线(26)，以便建立闭合的回路系统并在载体介质(14)中持续使用研磨颗粒(12)。
10.按权利要求9的抛光系统，其特征在于，回流管线(26)还有助于载体介质(14)中研磨颗粒(12)悬浮。
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