[发明专利]电摄影光敏元件的生产方法

说明书

本发明涉及一种电摄影光敏元件的生产方法。

电摄影光敏元件基本是由光敏层和基片构成，在光敏层上通过静电放电和曝光形成潜像，基片上涂有该光敏层。

同时，根据使用的电摄影方法，要求电摄影光敏元件具有感光度、电性能和光学特性。

还要求其在任何环境下具有环境稳定性，从低温/低湿度到高温/高湿度，且环境稳定性要足够高到能很好地展示其性能。

在如数字复印机和激光打印机的装置的情况下，其中曝光使用具有单一波长的光源进行，有缺陷的图像一般表现为白线、白色背景区中的黑斑、黑色背景区中的白斑、白色背景区中的背景雾、以及干涉条纹，它们是由各种因素如光敏元件的基片的表面形状和不均匀的层厚度引起的。因此，在光敏元件的生产中，必需预先采取一些防范措施，这样这些有缺陷的图像就不会出现。

当这样有缺陷的图像出现时，基片的表面状态是对其具有重要影响的因素。

在成型后根本未经处理的基片通常不一定具有最适合光敏元件的任何表面状态。因此，在许多情况下就出现了由表面状态引起的问题。

为了解决这样的问题，通常的做法是，例如日本专利申请公开号1-123246和64-86153所公开的，在铝基片表面在车床上磨光后形成光敏层。特别是，对于数字系统的光敏元件，建议磨光基片的表面使其具有合适的不匀度以便预防干涉条纹。

然而，当铝基片被磨光时，在周边方向仍保留着连续加工的痕迹。因此，条纹状缺陷图像可能以半色调像的形式出现，或特别地，由于数字图像和激光扫描线间的关系易于出现波纹。

日本专利申请公开号7-43922和8-1510公开了在基片周边进行辊抛光。这一方法可提供一种无规律的不均匀表面。然而，由于硬砂轮在高速下旋转抛光基片表面，脱落的砂粒或碎粉可能会影响基片表面，从而易于在某些地方被深深地擦伤，当光敏元件生产出来时这些划痕可能会留下，从而导致缺陷图像。

日本专利申请公开号6-35216、日本专利号2668985、日本专利公开号7-15589和日本专利申请公开号9-179322也公开了一种方法，其中用湿磨磨光铝基片的表面。这一方法是一种提供无规律的不均匀表面的有效方法。然而，这不能防止电荷由基片注入。

同时，迄今已提出各种方法，例如在日本专利申请公开号54-12733和57-62056中公开的将铝基片表面进行铬酸盐化形成铬酸盐化的化学转化涂层的方法；日本专利申请公开号58-14841和64-29852公开的在铝基片表面形成勃姆石涂层的方法；和日本专利申请公开号57-29051公开的高温处理强制氧化铝基片表面形成氧化物膜的方法。

对于，例如铬酸盐化方法，能得到具有某一性能度的基片。然而，由于处理溶液含有铬，处理废液非常困难，而且考虑到环境安全这也不是优选的。

对于勃姆石处理，表面的结晶态不能说是适合电摄影光敏元件的基片。这可能在某一程度上对电摄影性能有效，但对于图像，由于表面结构和形状不适合，不能达到令人满意的图像质量。因此，在现有状态下，不能得到所有那些令人满意的性能。

上述表面处理的目的是在基片表面形成的薄膜防止从基片局部注入光敏层的电荷引起的电摄影性能和图像的任何不均匀性。

作为一种防止这样的局部电荷注入以便不引起缺陷图像的方法，可使用这样一种方法，其中将铝基片表面进行阳极氧化以提供氧化铝层(例如，日本专利申请公开号2-7070和5-34964)。

这是达到这一目的的好方法。然而，为了均匀形成该层而不引起基片表面上层厚度的任何不均匀性，必须形成某一较大厚度的层，且在其形成的通常条件下，厚度是大约5或6μm或更高。因此，形成的层厚度必须远大于作为电荷注入阻挡层实际需要的厚度，结果导致成本的增加。

因此，本发明的一个目的是提供一种方法，可以低成本和稳定地生产电摄影光敏元件，该元件具有良好电摄影性能，在低温/低湿度到高温/高湿度的任何环境中不会引起缺陷图像，还较少引起电势变化。

作为解决上述问题所进行研究的结果，本发明人已发现：通过对电摄影光敏元件中使用的铝基片表面施予特殊的化学转化，从而在基片上形成具有特定组成的不溶性涂层而不需使用任何电外力是一种非常有效的方法，即通过在基片和含有特定金属元素的酸性水溶液间进行化学反应。考虑到成本和环境可很少受不利影响以及生产装置比阳极氧化要更简单的优点，这是很有效的。

此外，化学转化的准备步骤是用酸和碱中的至少一种蚀刻铝基片。这使获得电摄影光敏元件用的具有优良性能的基片成为可能。