[实用新型]高氧低温式颅脑损伤治疗装置无效
| 申请号： | 99247423.X | 申请日： | 1999-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN2404511Y | 公开（公告）日： | 2000-11-08 |
| 发明（设计）人： | 王成祥;王勇 | 申请（专利权）人： | 王成祥 |
| 主分类号： | A61G10/00 | 分类号： | A61G10/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 250014 山东省济南*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 低温 颅脑 损伤 治疗 装置 | ||
1、高氧低温式颅脑损伤治疗装置，它有颅脑罩(2)，其特征在于：颅脑罩(2)扣合在底板(12)上，颅脑罩(2)上分别设置有与其内腔相通的进氧口(3)、进冷口(1)、阀门(5)，颅脑罩(2)上设置有开口(8)。
2、根据权利要求1所述的高氧低温式颅脑损伤治疗装置，其特征在于：颅脑罩(2)为透明密封材料制作并分别呈矩形、圆形、椭圆形、三角形、多边形、多棱形的罩状。
3、根据权利要求1所述的高氧低温式颅脑损伤治疗装置，其特征在于：颅脑罩(2)的顶部设置有进氧口(3)，颅脑罩(2)的一侧设置有进冷口(1)。
4、根据权利要求1所述的高氧低温式颅脑损伤治疗装置，其特征在于：颅脑罩(2)的两侧分别有阀门(5)、(15)。
5、根据权利要求1所述的高氧低温式颅脑损伤治疗装置，其特征在于：开口(8)为马蹄状。
6、根据权利要求1所述的高氧低温式颅脑损伤治疗装置，其特征在于：开口(8)边沿上设置有密封沿(9)，密封沿(9)上有颈口(10)。
7、根据权利要求1或4所述的高氧低温式颅脑损伤治疗装置，其特征在于：阀门(5)、(15)内分别有孔(7)、(13)，孔(7)、(13)上分别设置有活塞(6)、(14)。
8、根据权利要求1所述的高氧低温式颅脑损伤治疗装置，其特征在于：颅脑罩(2)内有枕头(11)，枕头(11)安放在底板(12)上。
9、根据权利要求8所述的高氧低温式颅脑损伤治疗装置，其特征在于：枕头(11)为内装有药物的药枕。
10、根据权利要求1所述的高氧低温式颅脑损伤治疗装置，其特征在于：颅脑罩(2)上设置有综合显示器(4)。
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