[发明专利]光敏黑色基体组合物及其制法

权利要求书

1.一种光敏黑色基体组合物，它是在溶液中配制成含20-50％重量的总固体，其体积电阻率大于10⁸欧姆-厘米，膜厚1微米或更低的光密度大于3.0，该组合物包括：

a.粘合剂体系，其组成为：

1)可溶于碱的聚合物基料和

2)可光聚合的多官能团的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯共聚单体或共聚单体的混合物，共聚单体的每个分子中有一个或多个烯属不饱和双键；

b.有效粒径的涂有二氧化硅的颜料；

c.三烷氧基有机硅烷偶合剂或它们的混合物；

d.能够有效地操作在低于400毫微米波长下的能产生自由基的光引发剂或光引发剂体系；

e.适于在玻璃和半导体底材上旋涂的具有干燥特性的溶剂；以及

f.占干燥染料固体重量低于3％重量的溶剂可溶的染料，其中组合物与具有高光密度和低导电性的其它光成象的有机黑色基体相比储存寿命具有明显的改进。

2.权利要求1的黑色基体组合物，其中可溶于碱的聚合物基料是含丙烯酸、甲基丙烯酸、或其它具有羧酸、磺酸、磺酰胺、酚或其它能使基料在含水碱中溶解的酸官能团的烯属不饱和单体的乙烯基聚合物或共聚物。

3.权利要求2的黑色基体组合物，其中可溶于碱的聚合物基料还含非酸的(甲基)丙烯酸单体。

4.权利要求3的黑色基体组合物，其中可溶于碱的聚合物基料是甲基丙烯酸或丙烯酸和一种或多种非酸(甲基)丙烯酸单体的共聚物，其中所说的酸性单体的用量应能使组合物在碱显影液中有效地进行无残余的蚀刻。

5.权利要求3的黑色基体组合物，其中可溶于碱的聚合物基料是包括约70％摩尔甲基丙烯酸苄酯和约30％摩尔甲基丙烯酸的共聚物。

6.权利要求1的黑色基体组合物，其中共聚单体是多官能团(甲基)丙烯酸共聚单体或每个分子具有两个或多个烯属不饱和的双键共聚单体混合物。

7.权利要求5的黑色基体组合物，其中共聚单体或共聚单体的混合物由多官能团丙烯酸酯单体组成。

8.权利要求6的黑色基体组合物，其中多官能团丙烯酸酯单体是四丙烯酸季戊四醇酯。

9.权利要求1的黑色基体组合物，其中涂有二氧化硅的金属氧化物颜料或不只一种颜料的主要粒径为0.01-0.02微米，至少50％重量的粒子的主要粒径低于0.02微米。

10.权利要求1的黑色基体组合物，其中涂有二氧化硅的金属氧化物颜料或不只一种颜料选自铜、锰、钴、镍、铬和铁的氧化物或它们的混合物。

11.权利要求1的黑色基体组合物，其中涂有二氧化硅的金属氧化物颜料或颜料同有机颜料的混合物使用，所说的有机颜料的用量低于涂料固体总量的5％重量。

12.权利要求1的黑色基体组合物，其中涂有二氧化硅的金属氧化物颜料是颜料黑26。

13.权利要求1的黑色基体组合物，其中三烷氧基有机硅烷偶合剂的用量为颜料固体的约5％重量。

14.权利要求1的黑色基体组合物，其中三烷氧基有机硅烷偶合剂是甲基三甲氧基硅烷。

15.权利要求1的黑色基体组合物，其中光引发剂或光引发剂系统包括胺-取代的乙酰苯同噻吨酮和N，N-二甲基氨基苯甲酸辛酯的混合物。

16.权利要求1的黑色基体组合物，其中溶剂是N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)和环己酮的混合物。

17.权利要求1的黑色基体组合物，其中溶剂可溶的有机染料是偶氮-1，2-铬配合物染料。

18.权利要求1的黑色基体组合物，其中溶剂可溶的有机染料选自溶剂黑27、溶剂黑28、溶剂黑29和溶剂黑45。

19.权利要求1的黑色基体组合物，其中溶剂可溶的有机染料为颜料固体1％重量的溶剂黑28。

20.权利要求1的黑色基体组合物，其中涂料固体占涂料组合物总量的30-40％重量。