[发明专利]倾斜检测装置,光盘装置和倾斜控制方法有效
申请号: | 99801607.1 | 申请日: | 1999-07-13 |
公开(公告)号: | CN1277712A | 公开(公告)日: | 2000-12-20 |
发明(设计)人: | 中村敦史;东海林卫;石田隆 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | G11B7/095 | 分类号: | G11B7/095;G11B7/09 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 刘晓峰 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 倾斜 检测 装置 光盘 控制 方法 | ||
本发明涉及一种把激光照射在光盘媒体上而存储信息的光盘,及其光盘装置。
近年来,光盘装置作为存储和复制大量信息的装置已有很大的发展,实现高密度存储的设备也得到采用。这些方法中之一是利用双向晶体的相位变化型—非晶态变化的光盘装置。
在相位变化型光盘装置中,通过利用两个能量装置将半导体激光照射在光盘媒体上,使标记(非晶质部分)和这些标记之间的间隙(结晶部分)都形成于一个光盘媒体上,所述两个能量装置一个是峰值功率装置,用于提供结晶区的非晶质,另一个是偏置功率装置,用于结晶非晶质区。
脊/槽录音技术即为将这些标记和间隔以轨迹形式记录在唱盘上导槽的脊区和槽区。
为了提高光盘的准确性,必须在光盘上存储和重放高质量的信号。如果光盘的记录表面相对光束的光轴存在倾斜(倾角),则光斑发生偏差,变得难于在光盘上记录和重放高质量的信号。因此,为了把信号记录到光盘上和从其上重放信号,必须精确地检测上述倾角,并修正这种倾角。
现有的修正倾斜的方法是利用图2所示的倾斜装置。
图2中的标号201为光盘;标号202是光头,它将光束聚焦在所述光盘上;标号203是倾斜平台;标号204是信号计算电路;标号205表示聚焦控制机构,用以控制光盘表面上光斑的聚焦位置;标号206表示跟踪控制机构,用以控制光斑关于磁迹的位置;标号207是对照射光的倾斜传感器,用以检测光盘信号关于上述光束的光轴在光盘上的偏差,接收光盘的反射光并检测光盘记录表面关于所述光束光轴的倾斜;标号208表示倾斜控制机构,用于通过根据所述倾斜传感器测得的值倾斜上述倾斜平台,以控制上述光盘的记录表面关于所述光束光轴的倾斜。
图3表示在普通光盘装置中在光盘的内部周圆和外部周圆处修正倾斜位置情况的曲线。
但在现有的制品中,由于如图2所示的倾斜传感器和倾斜控制机构被用于检测光盘的倾斜位置,为了修正光盘记录表面关于光束光轴的倾斜,就必须设置用于检测倾角的倾斜传感器207,它与光头202是分开的。光头和倾斜传感器这两个光学系统的结合造成光学装置较为复杂,增大了装置所占的空间,并导致成本提高。此外,必须调节光头和倾斜传感器这两个光学系统的光轴,因而使调节工作变得较为复杂,在倾斜传感器与光盘记录表面关于所述光束光轴的倾斜(倾角)之间容易发生误差,致使难于精确地检测这种倾角。
本发明克服了上述所有的问题,其目的在于,通过按由倾斜检测机构测得的值为一适当值的方式修正光盘在其内部周圆、中部周圆及外部周圆径向位置处关于光束光轴的倾斜,提高光斑的质量,改善记录与重放的特性。为了解决上述问题,本发明包括以下几方面:
本发明的第一方面对应于方法(1)的实施例。
第一方面涉及一种倾斜检测装置,用以检测光盘记录表面的倾斜,所述光盘具有磁迹和所形成的第一种偏移凹坑及第二种偏移凹坑,所述凹坑被形成使得该第一种偏移凹坑和第二种偏移凹坑分别从一条磁迹的中心被偏移到该磁迹的的第一侧和第二侧,所述装置包括:
光头,用于通过将光斑聚焦在所述光盘上记录和重放信号;
二隙(two-split)光探测器,用于接收从所述光盘反射的光,所述光探测器包括沿与磁迹平行的方向分开的第一光探测元件和第二光探测元件;
跟踪控制机构,用以控制所述光斑关于磁迹的位置;
倾斜检测机构,用于通过差值信号输出检测光盘记录表面关于所述光束光轴的倾斜,所述差值信号表示在由所述二隙光探测器接收来自所述连续磁迹的反射光情况下,来自所述第一和第二光探测元件的信号间的差。
因而,通过由预先记录在光盘上的凹坑检测倾角,它能提高记录和重放的过程中的信号质量,而无需与记录和重放信号的光学系统分开设置检测倾角的光学系统。因此,这具有减小装置整体尺寸及降低成本的效果。
本发明的第二方面对应于方法(4)的实施例。
第二方面涉及一种倾斜检测装置,用于检测光盘记录表面的倾斜,所述光盘具有磁迹和第一种偏移凹坑和第二种偏移凹坑,所述凹坑被形成使得该第一种偏移凹坑和第二种偏移凹坑分别从一条磁迹的中心被偏移到该磁迹的第一侧和第二侧,所述装置包括:
光头,用于通过将光斑聚焦在所述光盘上记录和重放信号;
二隙光探测器,用于接收从所述光盘反射的光,所述光探测器包括沿与磁迹平行的方向分开的第一光探测元件和第二光探测元件;
跟踪控制机构,用以控制所述光斑关于磁迹的位置;
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