[发明专利]烧结氧化物溅射靶组件

权利要求书

1、一种用于磁控管溅射的烧结氧化物溅射靶组件，其特征在于在中心非烧蚀区不合烧结的氧化物；所述中心非烧蚀区的背板表面涂覆有构成所述靶材的元素，或者涂覆有含有构成所述靶材的元素的焊料；并且将划分为跑道形状的该烧结氧化物靶的各个部分组合，其中易受溅射的靶材部分的厚度大于非烧蚀区的厚度。

2、权利要求1的烧结氧化物溅射靶组件，其特征在于在所述的烧结氧化物靶为平面矩形结构时，所述的烧结氧化物溅射靶组件包括两个端部和一对或多对置于其间的平行部分，并且包括所述端部和所述平行部分之间的中心非烧蚀区，其中该非烧蚀区不含烧结的氧化物。

3、权利要求2的烧结氧化物溅射靶组件，其特征在于所述的两个矩形端部的每一个都包括马蹄形厚部分和周围的薄部分；并且在所述的平行部分中形成的厚部分和薄部分自所述的两个端部呈直线形成并在装配的烧结氧化物靶上构成跑道形状，所述的端部具有马蹄形厚部分和薄部分。

4、权利要求1-3任一项所述的烧结氧化物溅射靶组件，其特征在于所述的厚部分的形状基本上是梯形，并且平均倾角为5度或更多和90度以下。

5、权利要求1-4任一项所述的烧结氧化物溅射靶组件，其特征在于所述的烧结氧化物溅射靶组件包括至少一个位于所述厚部分和所述薄部分之间或者环绕所述厚部分连续的和不连续的斜面，所述的斜面选自平斜面、凸斜面、凹斜面或它们的组合，或者这些斜面和水平面或垂直面的组合。

6、权利要求5的烧结氧化物溅射靶组件，其特征在于水平面、斜面、拱形面和垂直面交叉处的边缘或斜角部分被倒角为具有0.1mm或更大的半径。

7、权利要求5或6的烧结氧化物溅射靶组件，其特征在于平面靶被溅射时产生的烧蚀形状和具有基本上梯形厚部分的靶的斜面的实际交叉点与所述厚部分的顶面之间的距离为5mm或者更小。

8、权利要求1-7任一项所述的烧结氧化物溅射靶组件，其特征在于溅射表面中心线处的平均表面粗糙度Ra为4微米或更小，靶的相对密度为80％或更大，靶的密度分布为0.04％或更小。