[发明专利]光掩模坯的保持装置

说明书

本发明涉及一种用于光掩模坯的保持装置及使在这种装置中使用的光掩模坯接地的方法。

在制造用于光刻工艺的光掩模时将使用作为原材料的所谓光掩模坯。这种光掩模坯涉及抛光的石英板，该石英板涂有一铬层及布置在铬层上的由光胶组成的层。该光掩模坯将在一个电子束记录装置中用电子束照射，由此使所需的掩模图形转移到该光掩模坯上。在该照射期间光掩模坯必须接地，因为否则在其表面区域可能形成静电，这会对掩模作图时的电子束产生不希望有的影响。

已经公知了：为了光掩模坯的接地，使用一种接地弹簧，该弹簧被设置在当照射时放置光掩模坯的盒内。在将光掩模坯装载到盒中时，光掩模坯被移动到接地弹簧的下面，其中该弹簧在局部损伤光胶层及铬层的情况下与它们形成电接触。在此情况下不利的是，当这些层损伤时将引起颗粒的形成。这些颗粒可能形成对电子束的覆盖或使其变形，这就导致铬区(铬点)的形成及出现位置误差。这种带有误差的掩模的修理仅在花费大开支时才有可能或根本是不可能的。当出现铬点时，在专为此设计的修理设备上借助激光束通过蒸发来除去铬点，这样当然存在大的损伤相邻结构的危险性；由于电子束的变形形成的位置误差是不可修理的。

该公知的接地弹簧的另一缺点在于，往往会出现不确定的电接触，这可引起不良的接地。这也会引起电子束的误定位并由此引起不可修理的掩模缺陷。

本发明的任务在于，提供一种用于光掩模坯的保持装置，借助它可实现无缺陷地制造掩模的高成品率。此外，本发明旨在提供一种方法，通过该方法的使用可在制造时提高无缺陷掩模的成品率。

为了解决这些任务给出了权利要求1及11的特征。

通过在将接触顶尖移低时避免接触顶尖及光掩模坯之间的侧向相对移动可以实现：在将接触顶尖放置及压入到光掩模坯的表面层中时可在极大程度上避免层组成部分的破裂及由此在极大程度上排除不希望的颗粒的形成。对地接触的形成是通过接触顶尖无损伤地压到光掩模坯的一个表面层区域中形成的，由此避免了在该表面上的任何“刮伤”。

本发明的另一实质性优点在于：通过本发明的接地单元可导致形成一种确定的及可靠的电接触并由此导致同时良好的接地。

根据本发明的一种优选实施形式，接地单元被构成为在其一端可固定在保持体上及在其另一端设有接触簧的簧板。在此情况下，一种有利的实施方案的特征为：该簧板在未受压状态下具有一个弯曲度，在该弯曲度上，簧板在其纵向延伸上以一个角度α由一直线向下偏移。其中在适当选择角度α、簧板尺寸及合适材料选择的情况下，簧板的弹簧特性可根据需要来调整。

此外，有利的是，在簧板上设置了一个位置调节机构，它构成保持装置上的一个可调节的止挡。以此方式可确定地预给定在光掩模坯上接触顶尖的行程，也可以通过操作该位置机构来控制顶尖的向下移动。

接触顶尖最好由具有良导电率的硬材料，尤其是一种硬金属构成的。由此可保证顶尖的高抗磨损度及高抗变形度以及它的小电阻。

根据一种优选实施方案，该接触顶尖构成多棱边顶尖，其中至少一个棱边是一个刃边。由此，一方面可达到，在棱边之间提供相对大面积的接触面，借此可保持小的过渡电阻并提高可再现性。另一方面，通过刃边的锐利性可保证顶尖切入到表面层中，借此可明显减小由横向材料侵入引起的层成分剥落的危险。

虽然单个接地单元在实际上就基本建立了足够的接地，但通过设置多个接地单元将进一步提高接地可靠性及达到减少相应的接地故障。

根据本发明一种优选的实施形式，首先将光掩模坯固定在保持装置上它的最终位置上，及接着将接地单元的接触顶尖基本在与接触面的平面垂直的方向上向下移动。

本发明的其它优选实施方案给出在从属权利要求中。

以下将参照附图借助一个实施例以示范的方式来详细地描述本发明。附图为：

图1具有放入的光掩模坯及设有带簧板和接触顶尖的接地簧的一个盒的横截面图；

图2图1中所示装置的俯视图；

图3a图1中簧板的截面图；

图3b图3a中所示簧板的俯视图；

图4a图1中接地簧的接触顶尖区域的俯视图；及

图4b图4a中所示接地簧顶尖区域的侧视图。

根据图1，用于将一个光掩模坯保持在一个掩模制图器(电子束记录器MEBES)中的盒具有一个带中央凹陷2的保持板1。该中央凹陷2的上表面构成光掩模坯4的支承面3。光掩模坯4包括一个抛光的石英板5，在该板表面上约100nm厚的金属层如一铬层6，和布置在铬层上约400mm厚的一光胶层7。箭头X表示用于掩模制图的电子束瞄准在光掩模坯上的方向。