[发明专利]适合流体流通过结构布置的筛状结构无效
申请号: | 99807334.2 | 申请日: | 1999-03-31 |
公开(公告)号: | CN1305539A | 公开(公告)日: | 2001-07-25 |
发明(设计)人: | 迈克·J·达雷特;埃里恩·马丁·哈森坎普;杰弗里·R·马修雷克;丹尼斯·G·雷克斯;理查德·E·舒斯特 | 申请(专利权)人: | 英斯尼克系统公司 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 过晓东 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 适合 流体 流通 结构 布置 | ||
1.一种装置,所述装置包括:
a)外壳;
b)至少一个进气口,该进气口适合流体流入所述的外壳;
c)至少一个排气口,该排气口适合所述流体流出所述外壳。
d)密集的结构布置,所述的密集结构布置具有进气表面区和排气表面区;
e)筛状结构,所述的筛状结构具有至少一个开口,所述的筛状结构具有进气表面区和排气表面区;以及
f)管道,所述的管道把至少一个所述的排气口与所述筛状结构的排气表面区或所述密集结构布置的排气表面区连接起来,或者所述的管道把至少一个所述的进气口与所述密集结构布置的进气表面区或所述筛状结构的进气表面区连接起来。
2.根据权利要求1的密集结构布置进一步包括积木式气体系统的积木式部件。
3.根据权利要求1的装置,其中所述密集结构布置的两个表面区近似等于所述筛状结构的两个表面区中的任一个。
4.根据权利要求3的装置,其中所述密集结构布置的两个表面区的尺寸和形状与所述筛状结构的两个表面区中的任一个相同。
5.根据权利要求1的装置,其中所述的密集结构布置被安装在所述的筛状结构上。
6.根据权利要求1的装置进一步包括空气流来源,所述的空气流来源具有体积流速,所述的管道具有管道末端区,至少一个所述的进气口具有第一横截表面积,所述的管道末端区具有第二横截面积,所述的第一和第二横截面积两者都小于或等于所述空气流来源用名义线性流速归一化的体积流速。
7.根据权利要求1在所述筛状结构中的诸开口,其中所述开口在所述筛状结构中按周期性图案排列。
8.根据权利要求1的筛状结构进一步包括在所述筛状结构中插入所述开口的芯棒,所述芯棒在所述密集结构布置中位于宽间隙附近。
9.根据权利要求1在筛状结构中的开口,其中所述开口在所述结构布置中位于窄间隙附近。
10.根据权利要求1的外壳进一步包括至少一个附加的进气口。
11.根据权利要求1的流体流,其中所述的流体流是气态的流体流。
12.根据权利要求1的管道,其中所述的管道把所述的进气口与所述筛状结构的进气表面区连接起来。
13.根据权利要求12的管道,其中所述的管道这样隔离所述的流体流,以致所述的流体流几乎全部通过所述筛状结构的所述开口。
14.根据权利要求12的管道,其中所述的管道进一步包括至少一个从所述管道到所述外壳的通道。
15.根据权利要求1的管道,其中所述的管道把所述的排气口与所述筛状结构的排气表面区连接起来。
16.根据权利要求1 5的管道,其中所述的管道这样隔离所述的流体流,以致所述的流体流几乎全部通过所述筛状结构的所述开口。
17.根据权利要求15的管道,其中所述的管道进一步包括至少一个从所述外壳到所述管道的通道。
18.根据权利要求1的管道,其中所述的管道把所述的进气口与所述密集结构布置的进气表面区连接起来。
19.根据权利要求18的管道,其中所述的管道这样隔离所述的流体流,以致所述的流体流几乎全部通过所述筛状结构的所述开口。
20.根据权利要求18的管道,其中所述的管道进一步包括至少一个从所述管道到所述外壳的通道。
21.根据权利要求1的管道,其中所述的管道把所述的排气口与所述密集结构布置的排气表面区连接起来。
22.根据权利要求21的管道,其中所述的管道这样隔离所述的流体流,以致所述的流体流几乎全部通过所述筛状结构的所述开口。
23.根据权利要求22的管道,其中所述的管道进一步包括至少一个从所述外壳到所述管道的通道。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英斯尼克系统公司,未经英斯尼克系统公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/99807334.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的