[发明专利]组合物无效
申请号: | 99808572.3 | 申请日: | 1999-07-14 |
公开(公告)号: | CN1309687A | 公开(公告)日: | 2001-08-22 |
发明(设计)人: | Z·彻考维;C·本尼克 | 申请(专利权)人: | 罗利克有限公司 |
主分类号: | C09K19/56 | 分类号: | C09K19/56;C09K19/40 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈季壮 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组合 | ||
1.LC混合物的组分在制造包含该混合物的LCP网状结构中的应用,其特征在于,该组分能够在LCP网状结构中产生稳定的倾斜角。
2.根据权利要求1的应用,其中所述组分包含基质缔合部分和内消旋延伸部分,其特征在于,基质缔合基团的侧向尺寸至少比内消旋延伸基团的侧向尺寸大一半。
3.根据权利要求1或2的应用,其中所述基质缔合基团包括有机硅氧烷基团。
4.根据权利要求1-3中任何一项的应用,其中所述内消旋延伸基团包括芳族、非芳族碳环或杂环体系。
5.根据权利要求1-4中任何一项的应用,其中所述LCP网状结构是一种向列、近晶A或盘形分子物质。
6.一种具有结构式(Ⅰ)的化合物:
其中:
B1-B4分别独立地表示分隔基团,选自视需要取代的饱和或不饱和、直链或支链C2-80烷基、一种或多种视需要被一个或多个杂原子替代的非相邻烷基CH2基团;
B5表示氢原子或定义如上的分隔基团,
A1和A2分别独立地表示单键或定义如上的分隔基团,
MG1-MG3分别独立地表示内消旋基团,包含至少一个视需要取代的芳族或非芳族碳环或杂环体系;且
n1和n2分别独立地为0或正整数,
前提是,首先,当n2为0时,B1和B2都包括可聚合基团且A1、B1和B2中的至少一个包括选自有机硅氧烷、有机锗、有机锡和有机全氟残基的基团;
第二,当n2大于0时,B1、B2、B3和B4的至少一个包括可聚合基团且A1、A2、B1、B2、B3和B4中的至少一个包括有机硅氧烷基团。
7.根据权利要求6的化合物,其中A1、B1、和B2中的至少一个包括有机硅氧烷基团。
8.根据权利要求6或权利要求7的化合物,其中基团B1-B4中的至少一个包括位阻大的基团,选自氟化烷基残基和包含选自锗、锡和硅的原子的有机残基。
9.根据权利要求6-8中任何一项的化合物,其中基团B1-B4中的至少一个包括至少一个硅氧烷基团。
10.根据权利要求8或权利要求9的化合物,其中基团B1和B2包括至少一个硅氧烷基团。
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