[发明专利]用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料有效
| 申请号： | 99809560.5 | 申请日： | 1999-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN1158373C | 公开（公告）日： | 2004-07-21 |
| 发明（设计）人： | 弗拉斯塔·B·考夫曼;罗德尼·C·基斯特勒;王淑敏 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09G1/02;H01L21/321 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 基材 化学 机械抛光 浆料 | ||
【说明书】：
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