[发明专利]微石印用光致抗蚀剂、聚合物和工艺

权利要求书

1．一种光致抗蚀剂，包含

(a)一种含氟共聚物，其中包含一种从至少一种烯键不饱和化合物衍生的重复单元，其特征在于至少一种烯键不饱和化合物是多环的，且至少一种烯键不饱和化合物含有至少一个与烯键不饱和碳原子共价连接的氟原子；和

(b)至少一种光敏成分；

其中，该含氟共聚物不含有芳香族官能度，但含有足以使该光致抗蚀剂可显影的官能度，从而在对波长＜365nm的紫外辐射成像曝光时能产生凸起影像。

2．权利要求1的光致抗蚀剂，其中，光敏成分选自光致酸发生剂和光致碱发生剂组成的一组。

3．权利要求1的光致抗蚀剂，其中，官能度选自羧酸基和受保护酸基组成的一组。

4．权利要求1的光致抗蚀剂，其中，至少一种烯键不饱和化合物选自下列组成的一组：式中，

m和n各自为0、1或2,p是至少3的整数；

a和b独立地是1～3，但当b=2时a不等于1，反之亦然；

R¹～R¹⁴可以相同或不同，各自代表氢原子、卤原子、羧基、C₁～C₁₄二级或三级烷基羧酸酯、烃基或有取代烃基；

R¹⁵是一个有约4～20个碳原子、也可以含有1个或多个醚氧的饱和烷基，但其碳原子与氢原子之比大于或等于0.58；

R¹⁶～R²¹各自独立地是氢原子、C₁～C₁₂烷基、(CH₂)_qCO₂A、CO₂(CH₂)_qCO₂A或CO₂A，式中q是1～12，且A是氢或酸保护基，但R¹⁸～R²¹中至少一个是CO₂A。

5．权利要求4的光致抗蚀剂，其中，至少一种烯键不饱和化合物选自由双环[2.2.1]庚-2-烯、双环[2.2.2]辛-2-烯、1-金刚烷羧酸乙烯酯、1-金刚烷甲基·乙烯醚、和2-降冰片烷羧酸乙烯酯组成的一组。

6．权利要求1的光致抗蚀剂，其中，含氟共聚物进一步包含一种从有选自羧酸、二级烷基羧酸酯和三级烷基羧酸酯组成的一组的官能度的至少一种不饱和烯键单体衍生的重复单元。

7．权利要求1的光致抗蚀剂，其中，含有至少一个与烯键不饱和碳原子共价连接的氟原子的烯键不饱和化合物选自由下列组成的一组：四氟乙烯、氯三氟乙烯、六氟丙烯、三氟乙烯、偏二氟乙烯、氟乙烯、全氟(2,2-二甲基-1,3-二氧杂环戊烯)、全氟(2-亚甲基-4-甲基-1,3-二氧戊环)、CF₂=CFO(CF₂)_tCF=CF₂式中t为1或2、和R_fOCF=CF₂式中R_f为一个有1～约10个碳原子的饱和氟烷基。

8．权利要求1的光致抗蚀剂，进一步包含

(c)一种溶解抑制剂。

9．权利要求1的光致抗蚀剂，进一步包含

(c)一种交联剂。

10．权利要求1的光致抗蚀剂，进一步包含

(c)一种溶剂。