[发明专利]包含使辐射透不过的填料、不透射线的可阳离子聚合的组合物及其聚合方法无效
申请号: | 99811654.8 | 申请日: | 1999-03-16 |
公开(公告)号: | CN1321176A | 公开(公告)日: | 2001-11-07 |
发明(设计)人: | K·R·布雷特施尔;R·P·鲁西尼;B·D·克雷格;S·B·米特拉;J·D·奥克斯曼;J·R·古斯特;C·A·海尼;J·W·韦斯特伯格;M·C·特罗;B·U·科尔布;D·W·雅格布斯;D·A·卡萨基;J·A·贝克 | 申请(专利权)人: | 美国3M公司 |
主分类号: | C08K3/00 | 分类号: | C08K3/00;C08K3/22;C01G57/00;A61K6/08 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 白益华 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包含 辐射 不过 填料 不透 射线 阳离子 聚合 组合 及其 方法 | ||
1.一种可聚合的组合物,它包含:
(a)阳离子活性官能团;
(b)能够引发所述阳离子活性官能团的阳离子聚合的引发体系;和
(c)填料组合物,包含使辐射透不过的填料,该填料选自金属氧化物、金属卤化物、金属硼酸盐、金属磷酸盐、金属硅酸盐、金属碳酸盐、金属锗酸盐、金属四氟硼酸盐、金属六氟磷酸盐,以及它们的组合,其用量足以使所述可聚合的组合物不透过射线,
选择组分(a)、(b)和(c),以使得在25℃的反应温度引发所述阳离子活性官能团之后30分钟内,所述可聚合的组合物聚合形成经聚合组合物,其用GYZJ-935计测得的巴氏硬度至少为10。
2.如权利要求1所述的可聚合的组合物,其特征在于在25℃的反应温度引发所述阳离子活性官能团之后30分钟内,所述可聚合的组合物聚合形成经聚合组合物,其用GYZJ-934-1计测得的巴氏硬度至少为10。
3.如权利要求1所述的可聚合的组合物,其特征在于在25℃的反应温度引发所述阳离子活性官能团之后30分钟内,所述阳离子活性官能团的阳离子聚合形成经聚合组合物,其用GYZJ-935计测得的巴氏硬度至少为10。
4.如权利要求1所述的可聚合的组合物,其特征在于对所述填料组合物加以选择,以使得当所述使辐射透不过的填料的用量为所述可聚合组合物的至少50%(重量)时,所述使辐射透不过的填料按试验方法B测得的等电点不大于7。
5.如权利要求1所述的可聚合的组合物,其特征在于对所述填料组合物加以选择,以使得当所述填料组合物的用量为所述可聚合组合物的70%(重量)时,试验方法C中定义的包含所述填料组合物的试验可聚合组合物的吸附值不大于约20微摩尔/克填料,所述吸附值按试验方法C用表面积滴定测得。
6.如权利要求1所述的可聚合的组合物,其特征在于对所述填料组合物加以选择,以使得当所述填料组合物的用量为所述可聚合组合物的50%(重量)时,试验方法C中定义的包含所述填料组合物的试验可聚合组合物的吸附值不大于约80微摩尔/克填料,所述吸附值按试验方法C用表面积滴定测得。
7.如权利要求1所述的可聚合的组合物,其特征在于对所述填料组合物加以选择,以使得当所述填料组合物的用量占所述可聚合组合物的70%(重量)时,所述填料组合物导致试样溶液的电导率变化不大于60mV,所述电导率按照试验方法D测量。
8.如权利要求1所述的可聚合的组合物,其特征在于对所述填料组合物加以选择,以使得当所述填料组合物的用量占所述可聚合组合物的50%(重量)时,所述填料组合物导致试样溶液的电导率变化不大于125mV,所述电导率按照试验方法D测量。
9.如权利要求1所述的可聚合的组合物,其特征在于所述使辐射透不过的填料包含原子数至少为30的元素。
10.如权利要求9所述的可聚合的组合物,其特征在于元素选自钇、锶、钡、锆、铪、铌、钽、钨、钼、锡、锌、镧系元素,以及它们的组合。
11.如权利要求1所述的可聚合的组合物,其特征在于所述使辐射透不过的填料包含:
(a)选自氧化镧、氧化锌、氧化钽、氧化锡、氧化锆、氧化钇、氧化镱、氧化钡、氧化锶及其组合的氧化物,
(b)选自氧化铝、氧化硼、氧化硅及其组合的氧化物。
12.如权利要求1所述的可聚合的组合物,其特征在于所述填料组合物包含得自溶胶凝胶的填料,对所述填料组合物加以选择,以使得所述填料组合物按试验方法E由傅里叶变换红外光谱测得的相对峰高大于80%。
13.如权利要求1所述的可聚合的组合物,其特征在于所述使辐射透不过的填料包含0.5-55%(重量)氧化镧和45-99%(重量)氧化硅。
14.如权利要求1所述的可聚合的组合物,其特征在于所述使辐射透不过的填料包含0.5-55%(重量)氧化镧和0.5-50%(重量)氧化铝和0.5-90%(重量)氧化硅。
15.如权利要求1所述的可聚合的组合物,其特征在于所述使辐射透不过的填料包含0.5-55%(重量)氧化镧、0.1-55%(重量)氧化铝、0.01-80%(重量)氧化硼和1-90%(重量)氧化硅。
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