[发明专利]半导体芯片与衬底的焊接无效
申请号: | 99811705.6 | 申请日: | 1999-09-23 |
公开(公告)号: | CN1321409A | 公开(公告)日: | 2001-11-07 |
发明(设计)人: | L·A·奥洛夫松 | 申请(专利权)人: | 艾利森电话股份有限公司 |
主分类号: | H05K3/34 | 分类号: | H05K3/34 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王勇,李亚非 |
地址: | 瑞典斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 芯片 衬底 焊接 | ||
1.一种将半导体芯片焊接到衬底例如射频功率晶体管中的封壳的方法,其特征是
用由第一材料组合物组成的粘合层涂敷半导体芯片;
用由第二材料组合物组成的可焊接层覆盖粘合层;
用由第三材料组合物组成的抗氧化层覆盖所述可焊接层;
用金-锡焊料层覆盖抗氧化层;
将芯片经由所述金-锡焊料置于封壳的可焊接表面上;
将封壳和芯片暴露于其中引进了还原气体的惰性环境,并使所述封壳和芯片处于明显低于大气压的压力,同时将金-锡合金加热到高于其熔点温度的温度;
在金-锡焊料被熔化的情况下,提高气体压力;以及
当超过预定气体压力时,降低温度,使金-锡焊料凝固。
2.根据权利要求1的方法,其特征是第一材料组合物是钛-钨(TiW),第二材料组合物是镍(Ni),而第三材料组合物是金(Au)。
3.根据权利要求1的方法,其特征是第一材料组合物是钛(Ti),第二材料组合物是铂(Pt),而第三材料组合物是金(Au)。
4.根据权利要求1的方法,其特征是金-锡焊料的组分适应于来自封壳的金的补偿,致使得到具有共晶熔点或靠近所述共晶熔点的最终合金组合物。
5.根据权利要求4的方法,其特征是当封壳包括厚度为3-4μm的金层时,金-锡焊料包含75%的金和25%的锡。
6.根据权利要求1的方法,其特征是还原气体是气态甲酸。
7.一种射频功率晶体管,它包括至少一个射频功率半导体芯片和封壳,其特征是半导体芯片包括由第一材料组合物组成的粘合层、提供在所述粘合层上的由第二材料组合物组成的可焊接层、提供在所述可焊接层上的由第三材料组合物组成的抗氧化层,其中的芯片经由其合金组合物具有共晶熔点或靠近共晶熔点的金-锡焊料,被排列在可焊接封壳表面上。
8.根据权利要求7的射频功率晶体管,其特征是第一材料组合物是钛-钨(TiW),第二材料组合物是镍(Ni),而第三材料组合物是金(Au)。
9.根据权利要求7的射频功率晶体管,其特征是第一材料组合物是钛(Ti),第二材料组合物是铂(Pt),而第三材料组合物是金(Au)。
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