[发明专利]改性光催化剂溶胶无效
申请号: | 99812221.1 | 申请日: | 1999-11-22 |
公开(公告)号: | CN1323243A | 公开(公告)日: | 2001-11-21 |
发明(设计)人: | 中林亮 | 申请(专利权)人: | 旭化成株式会社 |
主分类号: | B01J35/02 | 分类号: | B01J35/02;C09D183/04;C09D5/00;C09D201/10 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 丁业平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 改性 光催化剂 溶胶 | ||
1.包括有改性光催化剂颗粒分散在其中的液体介质的改性光催化剂溶胶,
所述改性光催化剂颗粒是通过将光催化剂颗粒用选自不同化合物的至少一种改性剂化合物进行改性处理而制备的,这些不同化合物各自独立地包括从通式(1)表示的一氧二有机基硅烷单元、通式(2)表示的二氧有机基硅烷单元和通式(3)表示的二氟亚甲基单元中选择的至少一种结构单元:
-(R1R2SiO)-(1)其中R1和R2中各自独立地表示氢原子,直链或支链C1-C30烷基,C5-C20环烷基或C6-C20芳基,该芳基是未取代的或被选自C1-C20烷基、C1-C20烷氧基和卤素原子的至少一个取代基所取代,其中R1与通式(1)中定义相同,和
-(CF2)- (3),
所述改性光催化剂颗粒具有800纳米或更低的体积平均粒径。
2.根据权利要求1的改性光催化剂溶胶,其中所述光催化剂颗粒在改性处理之前具有200纳米或更低的体积平均粒径。
3.根据权利要求1或2的改性光催化剂溶胶,其中所述改性光催化剂颗粒具有200纳米或更低的体积平均粒径,不包括该颗粒的从改性剂化合物衍生的那一部分。
4.根据权利要求1-3中任何一项的改性光催化剂溶胶,它在30℃下放置100天之后,所述改性光催化剂颗粒的体积平均粒径仍保持在800纳米或更低。
5.根据权利要求1-4中任何一项的改性光催化剂溶胶,其中改性剂化合物具有增感基团。
6.根据权利要求1-5中任何一项的改性光催化剂溶胶,其中改性剂化合物具有选自环氧基,丙烯酰基,甲基丙烯酰基,酸酐基团,酮基,羧基,肼基,异氰酸酯基,异硫氰酸酯基,羟基,氨基,环状碳酸酯基和酯基的至少一个反应活性基团。
7.根据权利要求6的改性光催化剂溶胶,其中所述改性剂化合物具有选自肼基和酮基的至少一个反应活性基团。
8.根据权利要求1-7中任何一项的改性光催化剂溶胶,其中所述改性剂化合物是可自乳化的或可溶于水的。
9.根据权利要求1-8中任何一项的改性光催化剂溶胶,其中所述改性剂化合物含有至少一个硅原子,该硅原子上键接了至少一个氢原子。
10.根据权利要求9的改性光催化剂溶胶,其中所述的改性处理是在一种对键接于改性剂化合物的硅原子上的氢原子有脱氢缩合活性的脱氢-缩合催化剂存在下进行的。
11.根据权利要求10的改性光催化剂溶胶,其中所述的脱氢-缩合催化剂包括铂族的至少一种金属或其化合物。
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