[发明专利]检测物体的方法和装置

权利要求书

1.用一种检测装置，在衬底和检测装置相对运动的条件下，无接触地检测衬底上物体的一种方法，它以如下步骤作为其特征：

-用第一辐射装置照射至少一部分衬底，衬底上包含一个或更多的物体，使被所述第一辐射装置照射的所述一个或更多的物体中至少一个物体成象于一个二维阵列传感器装置上，该装置具有分部可寻址的象素阵列，从而产生包含物体高度信息的第一个象；

-用第二辐射装置照射至少一部分衬底，衬底上包含一个或更多的物体，使被所述第二辐射装置照射的所述一个或更多的物体中至少一个物体成象于所述传感器装置上，从而产生包含物体面积信息的第二个象；

-用所述传感器装置，从所述第一个象，提取物体高度信息；以及

-用所述传感器装置，从所述第二个象，提取物体面积信息。

2.按照权利要求1的方法，其特征在于产生第一个象的步骤与产生第二个象的步骤在时间上是分开的。

3.按照权利要求1或2的方法，其特征在于通过把第一个象和第二个象分别成象在所述传感器装置的不同部分上从而把第一个象和第二个象分开的步骤。

4.按照权利要求1，2或3的方法，其特征在于通过用所述第一和第二辐射装置分别照射衬底不同的部分从而把第一个象和第二个象分开的步骤。

5.按照如上任一项权利要求的方法，其特征在于通过把所述第一和第二辐射装置发出的辐射分别设置在第一和第二频率范围，并用滤光器至少过滤照射到传感器装置第一部位的辐射以使在所述第一和第二频率范围的一个中的辐射可以通过，而在所述第一和第二频率范围的另一个中的辐射被挡住，从而把第一个象和第二个象分开的步骤。

6.按照如上任一项权利要求的方法，其特征在于用所述面积和高度信息来计算物体体积的步骤。

7.按照如上任一项权利要求的方法，其特征在于用所述面积信息来计算物体位置的步骤。

8.按照如上任一项权利要求的方法，其特征在于用所述面积信息来计算物体外廓形状的步骤。

9.按照如上任一项权利要求的方法，其特征在于用所述面积信息来计算物体直径的步骤。

10.按照如上任一项权利要求的方法，其特征在于至少某些信号处理是在芯片上进行的。

11.按照权利要求10的方法，其特征在于在芯片上进行所述面积和高度信息提取的步骤。

12.按照如上任一项权利要求的方法，其特征在于交替处理所述第一和所述第二个象，以分别得到所述高度和面积信息的步骤。

13.按照权利要求1-11中任一项的方法，其特征在于并行处理所述第一和所述第二个象以分别得到所述高度和面积信息。

14.按照如上任一项权利要求的方法，其特征在于用所述第一辐射装置照射衬底的辐射是面状光形式的照射。

15.按照如上任一项权利要求的方法，其特征在于所述提取面积信息的步骤是用线扫描来执行的。

16.按照如上任一项权利要求的方法，其特征在于所述提取高度信息的步骤是用三角测量法来执行的。

17.按照如上任一项权利要求的方法，其特征在于适应性地调整所述第一和第二辐射装置中至少一个装置以响应变化的条件。

18.在衬底和检测装置相对运动的条件下，检测衬底上物体的一种装置，其特征在于：

-一个二维阵列传感器装置，它有分部可寻址的象素阵列；

-一个第一辐射装置；

-一个第二辐射装置；以及

-把物平面发出的辐射成象在传感器装置上的成象装置；所述第一辐射装置被安置来照射至少一部分衬底，该衬底包含一个或更多的物体，当衬底位于所述物平面内，所述成象装置就产生所述一个或更多物体中至少一个物体的第一个象，所述第一个象包含物体高度信息；

所述第二辐射装置被安置来照射至少一部分衬底，该衬底包含一个或更多的物体，当衬底位于所述物平面内，所述成象装置就产生所述一个或更多物体中至少一个物体的第二个象，所述第二个象包含物体的面积信息；

所述传感器装置包含从所述第一个象提取物体高度信息，和从所述第二个象提取物体面积信息的提取装置。