[发明专利]用于放射照相术的伽马射线源

权利要求书

1.一种用于物体放射照相成像装置中的伽马射线源，该射线源包含一个内含放射性同位素材料的主体，该主体有一个放射伽马射线的表面，该表面有一个至少比它要投射的面积大1又1/4倍的放射面。

2.一种如权利要求1所述的射线源，其中伽马射线放射表面是不平坦的。

3.一种如权利要求2所述的射线源，其中主体放射表面的不平坦性由沟纹状提供。

4.一种如权利要求3所述的射线源，其中沟纹之间的距离最多是主体厚度的4倍。

5.一种如权利要求4所述的射线源，其中沟纹之间的距离是主体厚度的2倍。

6.一种如权利要求2所述的射线源，其中主体放射表面的不平坦性由多个包含了放射性同位素材料的电线状的元件提供，它们被一个挨一个地紧紧地排在一起。

7.一种如权利要求2所述的射线源，其中主体放射表面的不平坦性由一个包含了放射性同位素材料的细长电线状的元件提供，它以螺旋形放置。

8.一种如权利要求2所述的射线源，其中主体放射表面的不平坦性可以由包含了放射性同位素材料的多个珠子提供，它们互相挨着被紧紧地排在一起。

9.一种如权利要求8所述的射线源，其中珠子有一个最大2mm的截面尺寸。

10.一种如权利要求8或权利要求9所述的射线源，其中珠子按六角型紧密排列。

11.一种如权利要求1至权利要求10中任何一个所述的射线源，其中主体平视是圆形型的，并带有或凸起或凹下的伽马射线放射表面。

12.一种如权利要求11所述的射线源，其中主体厚度为0.25mm至5mm之间和直径为3mm到40mm之间。

13.一种如权利要求1至权利要求10中任何一个所述的射线源，其中主体是中空的半球拱型，伽马射线的放射表面由拱顶的内表面提供。

14.一种如权利要求1至权利要求10中任何一个所述的射线源，其中主体是环形的，射线源包括了一个盘子，盘子中含有一种原子数在40到74之间的材料，盘子罩在环形主体的孔口上。

15.一种在此前任何一项权利要求中所述的射线源，包括一个固定主体的基底，基底位于主体远离伽马射线的放射表面的一侧。

16.一种如权利要求15所述的射线源，其中基底最少由两层组成。对伽马射线具有高吸收性和低散射性的第一层，和对伽马射线具有低吸收性和高散射性的第二层，第二层被夹在第一层和主体之间。

17.一种在此前的任何一项权利要求中所述的射线源，包括一个伽马射线无法穿透的腔体，至少罩住主体，腔体应有一个盖在主体伽马射线放射表面的金属窗口，该窗口允许伽马射线通过。

18.一种如权利要求17所述的射线源，其中腔体金属从铝、铜和不锈钢中选用，而窗口金属从铍、不锈钢、铝和银中选用。

19.一种如权利要求18所述的射线源，其中窗口厚度最多0.5mm。

20.一种在此前的任何一项权利要求所述的射线源，其中放射性同位素材料以氧化物形式存在并且氧化物被混合在陶瓷材料中。

21.一种在此前的任何一项权利要求所述的射线源，其中主体的陶瓷坯料中包括一种添加剂，它的原子数在40至70之间，具有能放射18至59keV之间X射线的特性。

22.一种在此前的任何一项权利要求所述的射线源，它的放射活性应至少0.1居里、最多20居里。

23.一种如权利要求1至权利要求21中任何一个所述的射线源，它具有至少8m居里/mm²的射线源填充量。

24.一种如权利要求1至权利要求23中任何一个所述的射线源，其中放射性同位素材料可以从镅-241(²⁴¹Am)、铥-170(¹⁷⁰Tm)和它们的混合物中选择。