[发明专利]高抗激光损伤阈值疏水增透二氧化硅膜的制备方法

摘要

一种高抗激光损伤阈值疏水增透二氧化硅膜的制备方法，是将原料Si(OR)₄、R′xSi(OR)_4-x、无水乙醇、水和催化剂，按摩尔比Si(OR)₄∶R′xSi(OR)_4-x∶无水乙醇∶水∶催化剂＝1∶0.1-5∶10-100∶1-10∶0.001-0.2在常温下搅拌均匀制成镀膜液，在温度为0-70℃下老化10-120天，采用常规的旋转镀膜法，提拉法和弯月面法进行单面或双面镀膜。本发明具有设备简单，制备条件温和，易操作，基底上镀本发明的膜层以后，透光率增加，疏水性能好，同时提高膜层的抗激光损伤阈值的优点。

主权项

1.一种高抗激光损伤阈值疏水增透二氧化硅膜的制备方法，其特征在于包括如下步骤：(1)镀膜液的制备将原料Si(OR)4、R′xSi(OR)4-x、无水乙醇、水和催化剂，按摩尔比Si(OR)4∶R′xSi(OR)4-x∶无水乙醇∶水∶催化剂＝1∶0.1-5∶10-100∶1-10∶0.001-0.2在常温下搅拌均匀；其中x＝1或2，R是甲基、乙基、丙基；R′是甲基、乙基、乙烯基或氟烷基；(2)老化，将镀膜液在老化温度为0-70℃下老化时间为10-120天；(3)镀膜，采用常规的旋转镀膜法，提拉法和弯月面法进行单面或双面镀膜。