[发明专利]通道设备无效
| 申请号： | 00104312.9 | 申请日： | 2000-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN1299772A | 公开（公告）日： | 2001-06-20 |
| 发明（设计）人： | 松本达也;斋藤忠一;小嶋和平 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所;株式会社日立建筑系统 |
| 主分类号： | B66B23/00 | 分类号： | B66B23/00;E04F11/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 刘立平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种通道设备,包括一站台16和收纳于对该站台建筑规定部分进行挖掘所形成的坑部19内至少部分的自动扶梯1,在所述站台建筑上面形成有与铺设铁轨17的地面18邻接、高于地面18位置处的步行通道,还包括一个形成于所述坑部19下方的增强部21,同时,设所述坑部的挖掘深度尺寸为H1,所述增强部的高度尺寸为H2,从地表面18a至站台16上部地面的高度尺寸为H3时,这些尺寸满足关系H3=H1+H2。因此,可以便利地安装乘客运送装置,而不会对与安装有该装置的建筑结构邻接的特定区域地面产生不利影响。 | ||
| 搜索关键词： | 通道 设备 | ||
【主权项】：
1．一种通道设备，包括一建筑结构和收纳于对该建筑结构规定部分进行挖掘所形成的坑部内至少部分的乘客运送装置，在所述建筑结构的上面形成有与特定区域地面邻接、形成于高于该特定区域地面位置处的步行通道，其特征在于，所述通道设备还包括一个形成于所述坑部下方的增强部，所述增强部可以抑止因挖掘操作对上述特定区域地面所产生的不利影响；同时，所述坑部的挖掘尺寸为：坑部的挖掘深度尺寸作成H1，上述增强部的高度尺寸作成H2，从上述特定区域地表面至所述建筑结构的上面的高度尺寸设为H3时，这些尺寸满足下述关系：H3=H1+H2。
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