[发明专利]光二极管互补金属氧化物半导体图像传感器的制造方法

摘要

一种光二极管互补金属氧化物半导体图像传感器的制造方法,在基体上形成介电层与导体层,以光刻与蚀刻技术构成导体层与介电层,使导体层形成晶体管栅极导体层及数个位于二极管感光区的虚拟栅极。在基体中形成源极/漏极的轻掺杂区及二极管感光区的掺杂区。在栅极导体层及虚拟栅极侧壁形成间隙壁,以使间隙壁相连。再在基体中形成源极/漏极的重掺杂区。再进行自动对准金属硅化物制作工艺,以在栅极导体层及源极/漏极上形成金属硅化物。

主权项

1.一种主动式光二极管互补金属氧化物半导体图像传感器的制造方法，包括：提供一基体，该基体包括一二极管感光区；在该基体上形成一介电层与一导体层；构成该导体层与该介电层，以使留下的导体层形成一晶体管的一栅极导体层以及多个虚拟栅极位于该二极管感光区，并且使留下的介电层形成该晶体管的一栅极介电层以及多个虚拟栅极介电层位于该各虚拟栅极之下；以该隔离区、该栅极导体层与该各虚拟栅极为掩模，进行一第一离子植入步骤与一热驱入制作工艺，以在栅极导体层两侧的基体中形成一源极/漏极的一轻掺杂区，并在未被该各虚拟栅极覆盖的二极管感光区中形成多个掺杂区；在该栅极导体层的侧壁形成一第一间隙壁，并在该各虚拟栅极的侧壁形成多个第二间隙壁，该各相邻的第二间隙壁相互连接，并且覆盖该各掺杂区；以该隔离区、该栅极导体层、该各虚拟栅极以及该第一间隙壁与各第二间隙壁为掩模，进行一第二离子植入步骤与一热驱入制作工艺，以在该第一间隙壁两侧的基体中形成该源极/漏极的一重掺杂区；以及进行一自动对准金属硅化物制作工艺，以在该栅极导体层、该各虚拟栅极与该源极/漏极上形成一金属硅化物层。