[发明专利]双侧曝光系统无效
| 申请号： | 00108316.3 | 申请日： | 2000-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN1315677A | 公开（公告）日： | 2001-10-03 |
| 发明（设计）人： | 冈本惇 | 申请（专利权）人： | 丰和工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H05K3/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 叶恺东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种双侧曝光系统(1),其包括第1作业保持装置(21L),该装置用于保持与曝光掩模(55)相对的基板(P),以便通过该曝光掩模(55)对基板(P)的第1表面进行曝光;第2作业保持装置(21R),其用于保持与另一曝光掩模(55)相对的该基板(P),以便通过该曝光掩模(55)对基板(P)的第2表面进行曝光。可使未曝光的基板的接纳,转移和预处理操作阶段,以及具有一个已曝光表面的基板的接纳,转移和预处理操作阶段错开,以便防止在曝光操作过程中进行等待而造成的时间损失。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 系统 | ||
【主权项】：
1．一种双侧曝光系统(1)，用于通过一对分别带有所需曝光图案的曝光掩模(55,55)，对板(P)的一对相对的侧表面进行曝光，上述双侧曝光系统(1)包括：第1掩模保持机构(23L)，其保持用于对板(P)的第1表面进行曝光的第1曝光掩模(55)；第1作业保持装置(21L)，其能够在第1掩模保持机构(23L)的前部的第1曝光位置，以及其上设置有未曝光的板的第1原始位置之间移动；第2掩模保持机构(23R)，其保持用于对板(P)的第2表面进行曝光的第2曝光掩模(55)；第2作业保持装置(21R)，其能够在第2掩模保持机构(23R)的前部的第2曝光位置，以及从其上取下两侧已曝光的板(P)的第2原始位置之间移动；一个光源(61)；光路选择光学系统(63)，用于有选择地将光源(61)与指向第1曝光位置的第1光路，或指向第2曝光位置的第2光路连接；作业转移机构(75L,75R)，其能够从第1作业保持装置(21L)，接纳具有在第1曝光位置进行了曝光的第1表面的板(P)，并且将该板(P)转移给第2作业保持装置(21R)，从而可对该板(P)的第2表面进行曝光。
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