[发明专利]照相体系抗划伤-防水保护层无效
申请号: | 00108572.7 | 申请日: | 2000-05-15 |
公开(公告)号: | CN1274101A | 公开(公告)日: | 2000-11-22 |
发明(设计)人: | C·J·T·兰德里-科尔特莱恩;姚慧玲;L·M·弗兰克林 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | G03C1/76 | 分类号: | G03C1/76;G03C11/08 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王景朝,王其灏 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明是其上有防护层的成像摄影元件。即在有至少一层卤化银光敏乳剂层的照相材料上形成防护层。第一涂层中疏水性聚合物粒子平均粒度为0.01~1μm,熔融温度为55~200℃,重量百分含量为30~95,而明胶重量百分含量为5~70,此层涂在卤化银光敏乳剂层上。第二涂层中抗磨粒子平均粒度为0.01~1μm,此层涂在第一涂层上。此照相材料显影提供成像摄影元件。将第一和第二涂层熔合形成一个防护层。 | ||
搜索关键词: | 照相 体系 划伤 防水 保护层 | ||
【主权项】:
1、其上有防护层的成像摄影元件,通过下列步骤形成防护层,包括:提供具有至少一层卤化银光敏乳剂层的照相元件;首先涂布包含平均粒度为0.01~1μm,熔融温度为55°~200℃,重量百分含量为30~95的疏水性聚合物粒子,以及包含重量百分含量为5~70明胶的涂层,在至少一层卤化银光敏乳剂层上面形成第一涂层;涂布第二涂层,此层包含平均粒度为0.01~1μm的抗磨粒子,在第一涂层上形成该第二涂层;使至少一层卤化银光敏乳剂层显影,提供成像的摄影元件;以及熔合第一和第二涂层形成防护层。
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