[发明专利]抑制易聚合化合物纯化系统的真空区中的聚合的方法有效
| 申请号： | 00109005.4 | 申请日： | 2000-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN1276363A | 公开（公告）日： | 2000-12-13 |
| 发明（设计）人： | 松本行弘;西村武 | 申请（专利权）人： | 株式会社日本触媒 |
| 主分类号： | C07B63/00 | 分类号： | C07B63/00;B01D3/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李悦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种抑制在易聚合化合物纯化系统的真空区的聚合作用的方法。流入真空区的易聚合化合物如(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸酯的聚合可通过含有聚合抑制剂的液体在真空区与化合物直接接触而得到抑制。当真空区包括气液接触室时,可向室中供应含有聚合抑制剂的液体。当真空区包括液体喷射泵和/或那氏泵作为真空处理装置时,可通过液体喷射泵和/或那氏泵循环含有聚合抑制剂的液体以降低纯化区的压力。本发明系统适用于纯化易聚合化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 抑制 聚合 化合物 纯化 系统 真空 中的 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于抑制易聚合化合物纯化系统中真空区的聚合作用的方法，其特征在于包括使含有易聚合化合物的气体从纯化区流入气液接触室的步骤，该气液接触室中已供应了含有聚合抑制剂的液体。
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