[发明专利]变迹光纤光栅制造设备无效
| 申请号： | 00119988.9 | 申请日： | 2000-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN1292500A | 公开（公告）日： | 2001-04-25 |
| 发明（设计）人： | 金世润;辛相吉;金玟成 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/124 | 分类号： | G02B6/124;G02B5/18 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴增勇,张志醒 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 变迹光纤光栅制造设备包括紫外激光器;分束器多个反射镜;相位掩模,它让反射的光束通过,以便以预定的周期在光纤内形成光栅;第一遮断装置,它位于相位掩模和反射镜之一之间,逐渐遮断两束光束之一,使之不能从一个方向投射在光纤上而向形成的光栅提供变迹;相对于光纤位于第一遮断装置对面的第二遮断装置,它逐渐遮断另一束光束,使之不能从另一个方向投射在光纤上;于是向形成的光栅提供变迹,使得在整个光栅上平均折射率的变化是恒定的。 | ||
| 搜索关键词： | 光纤 光栅 制造 设备 | ||
【主权项】：
1．一种用于制造变迹光纤光栅的设备，它包括：紫外光激光器，用以发射紫外激光束；分束器，用以把从所述紫外激光器发射的所述紫外激光束分成两束光束；多个反射镜，用以形成光路，以便通过对所述光束的反射，把所述分开的光束同时从两个方向投射在所述光纤上；相位掩模，用以让所述反射的光束通过，以便以预定的周期在所述光纤内形成光栅；第一遮断装置，它在所述相位掩模和所述各反射镜之一之间，用来逐渐地遮断所述两束光束中的一束，使之不能从一个方向投射在所述光纤上，于是向所述形成的光栅提供变迹；和第二遮断装置，它可以移动并且相对于所述光纤而言位于所述第一遮断装置的对面，用来逐渐地遮断所述另一束光束，使之不能从另一个方向投射在所述光纤上，于是向所述形成的光栅提供变迹，使得在整个光栅上的平均折射率的变化恒定。
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