[发明专利]用来探测薄膜清除工艺的终点的方法和装置无效
| 申请号： | 00120454.8 | 申请日： | 2000-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN1125705C | 公开（公告）日： | 2003-10-29 |
| 发明（设计）人： | 李乐平;王新辉 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | B24B49/10 | 分类号： | B24B49/10 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 描述了一种用来探测薄膜清除工艺的终点的方法和装置，其中用具有连接到轴的抛光表面的抛光装置来清除薄膜。探测了由抛光表面上的摩擦力引起的扭矩导致的轴的变形。用安装在轴上的传感器，或借助于监测从轴上二个点反射的光信号之间的相位差，来执行此探测。根据轴的变形而产生信号。信号的变化表明扭矩的变化，从而表明薄膜清除工艺的终点。此装置允许实时原位监测和控制薄膜清除工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 用来 探测 薄膜 清除 工艺 终点 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用来探测薄膜清除工艺的终点的方法，其中的薄膜清除工艺采用具有轴的薄膜清除装置，且此薄膜清除工艺在轴上引起扭矩，此方法包含下列步骤：探测扭矩引起的轴的变形；以及根据轴的变形而产生信号，其中信号的变化表明扭矩的变化，从而表明薄膜清除工艺的终点。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际商业机器公司，未经国际商业机器公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/00120454.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
