[发明专利]带倒置的MISFET结构的超导场效应晶体管无效

专利信息
申请号: 00122233.3 申请日: 1991-12-06
公开(公告)号: CN1323070A 公开(公告)日: 2001-11-21
发明(设计)人: 贝德诺茨·J·乔治;曼哈特·J·迪特尔;米勒·C·亚历山大 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L39/22 分类号: H01L39/22
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王永刚
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的场效应晶体管由作为栅极的导电性基底(2)、一个绝缘势垒层(3)和势垒层(3)上的一个超导沟道层(1)所组成。超导层(1)附装着一对相距一定距离的电极(4,5),分别构成源极和漏极,基底上设有一个适当的栅极接点。基底(2)由与势垒层(2)属于同一结晶体群的材料所构成。在本发明的一个最佳实施例中,基底(2)是一个掺铌的钛酸锶,势垒层(3)是一个无掺杂元素的钛酸锶,超导体(1)是一个薄膜。
搜索关键词: 倒置 misfet 结构 超导 场效应 晶体管
【主权项】:
1.一种超导体场效应晶体管,其特征在于包括:一个导电性基底,由某结晶体群中的第一材料的单晶体组成,所述晶体具有预定的晶体取向;一个栅极,由一个到所述基底的接点构成;一个绝缘势垒层,在所述基底的上表面上,所述绝缘势垒层由所述结晶体群中的第二材料组成,并且具有与预定晶体取向相同的晶体取向;一个超导薄膜层,在所述绝缘势垒层的上表面上;一对金属端片,在所述超导薄膜的上表面上,第一金属端片是源极,第二金属端片是漏极;以及一个由电场控制的电流沟道,位于两个金属端片之间的所述超导薄膜层中。
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