[发明专利]喷墨头的制造方法及其结构有效
申请号: | 00124015.3 | 申请日: | 2000-08-10 |
公开(公告)号: | CN1338380A | 公开(公告)日: | 2002-03-06 |
发明(设计)人: | 莫自治;张英伦;游正弘;周沁怡 | 申请(专利权)人: | 研能科技股份有限公司 |
主分类号: | B41J2/16 | 分类号: | B41J2/16;B41J2/14 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 王宏祥 |
地址: | 台湾省新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种喷墨头的制造方法及其结构,它包括一基层、一图样层,其由第一图样及第二图样所构成,该第二图样呈不连续状且形成在预设墨水通道位置,一乾膜光阻层及喷孔片。 | ||
搜索关键词: | 喷墨 制造 方法 及其 结构 | ||
【主权项】:
1.一种喷墨头的制造方法,包括下列步骤:在选定基层上以半导体工艺形成包括第一图样及第二图样的图样层,前述图样层至少由加热层及钝化层组成,其中前述第一图样构成前述喷墨头的电路而第二图样则呈不连续形状并形成在预设墨水通道两端的位置,且具有与第一图样基本相等的高度;在前述图样层上形成一乾膜光阻层,前述乾膜光阻层是在喷墨头中央形成一墨水通道及在该墨水通道两侧形成多个墨水腔;将具有多个对应前述墨水腔的开孔的喷孔片以热压方式粘合于乾膜光阻层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于研能科技股份有限公司,未经研能科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/00124015.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:有色金属回收熔炼装置
- 下一篇:肝靶向重组PEGFP-ATK质粒纳米粒制剂