[发明专利]半导体处理控制系统及控制方法和记录其处理的记录媒体无效
| 申请号： | 00124246.6 | 申请日： | 2000-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN1280343A | 公开（公告）日： | 2001-01-17 |
| 发明（设计）人： | 原川正一;池田诚;福田悦生 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G06F17/00 | 分类号： | G06F17/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 半导体处理过程控制系统,设置有不取决于半导体处理装置和处理目标而进行半导体处理过程的控制的过程控制主体单元;和求取适用于所述半导体处理装置和所述处理目标的半导体处理装置的控制变量的控制变量计算装置,对应于所述半导体处理装置和所述处理目标可存在多个,同时,所述控制变量计算装置被构成为按照需要对应于所述处理控制主体单元可以插拔的结构。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 处理 控制系统 控制 方法 记录 媒体 | ||
【主权项】：
1．一种半导体处理过程控制系统，其特征是设置有：不取决于半导体处理装置和处理目标而进行半导体处理过程的控制的过程控制主体单元；和求取适用于所述半导体处理装置和所述处理目标的半导体处理装置的控制变量的控制变量计算装置，对应于所述半导体处理装置和所述处理目标可存在多个，同时，所述控制变量计算装置被构成为按照需要对应于所述处理控制主体单元可以插拔的结构。
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