[发明专利]激光气相法生产纳米粉的新型反应室光路系统无效
| 申请号： | 00124797.2 | 申请日： | 2000-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN1286153A | 公开（公告）日： | 2001-03-07 |
| 发明（设计）人： | 史清河;沈怀营;陈伟 | 申请（专利权）人： | 黑龙江中超纳米产业股份有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/00 | 分类号： | B23K26/00;C09C1/28 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100094 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明为一种改进了的激光气相法生产纳米粉的反应室光路系统,系统在原有光路系统中与底面平行设置拦光器,该拦光器中有一扁矩形透光孔,激光通过透光孔在球面镜上进行多次反射,透光孔外激光被拦光器阻拦吸收,为即时带走被吸收的激光能量,特为拦光器设置水冷系统。用上述新型反应室光路系统使激光在反应室中心聚焦形成纵向高度一定,体积形状规则的光斑,从而解决了激光光轴的飘移问题。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 气相法 生产 纳米 新型 反应 室光路 系统 | ||
【主权项】：
1、激光气相法生产纳米粉的新型反应室光路系统由一透射镜及一组球面反射镜构成，其特征在于：1)在靠近反应室反应区中心点与反应室底面平行，设置带有透光孔径的栏光器，使入射激光通过该孔径后在球面镜上进行多次反射，而超出孔径的激光则被栏光器阻拦从而被吸收；2)所述拦光器带有一水冷装置以便即时带走被吸收的激光能量。
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