[发明专利]多级快速电可擦可编程只读存储器单元及其制造方法无效

专利信息
申请号: 00126800.7 申请日: 2000-12-22
公开(公告)号: CN1301043A 公开(公告)日: 2001-06-27
发明(设计)人: 蒋尚焕;金基锡;李根雨;朴成基 申请(专利权)人: 现代电子产业株式会社
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247
代理公司: 柳沈知识产权律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种多级EEPROM单元及其制造方法。EEPROM单元包括一个浮动栅极,通过下面的隧道氧化层与硅衬底电隔离;第一电介质层,形成于浮动栅极的顶部;第一控制栅极,形成在浮动栅极上,并且通过第一电介质层与浮动栅极电隔离;第二电介质层,形成在第一控制栅极的侧壁和顶部上;第二控制栅极,形成在第一控制栅极的侧壁和顶部上,并且通过第二电介质层与第一控制栅极电隔离;以及源极和漏极,它们形成在衬底中,并且与第二控制栅极两边自对准。
搜索关键词: 多级 快速 电可擦 可编程 只读存储器 单元 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种多级快速EEPROM单元,包括:一个浮动栅极,它通过下面的隧道氧化层与一个硅衬底电隔离;第一电介质层,它形成于浮动栅极的顶部;第一控制栅极,它形成在浮动栅极上,并且通过第一电介质层与浮动栅极电隔离;第二电介质层,它形成在第一控制栅极的侧壁和顶部上;第二控制栅极,它形成在第一控制栅极的侧壁和顶部上,并且通过第二电介质层与第一控制栅极电隔离;和一个源极和一个漏极,它们形成在衬底中,并且与第二控制栅极两边自对准。
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