[发明专利]场致发光装置和用于制造场致发光装置的方法有效
申请号: | 00126876.7 | 申请日: | 2000-09-01 |
公开(公告)号: | CN1287343A | 公开(公告)日: | 2001-03-14 |
发明(设计)人: | 山崎舜平 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | G09G5/12 | 分类号: | G09G5/12;H01L31/12 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 陈霁,王忠忠 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的目的在于减少EL显示装置的制造成本和配备有EL显示装置的电子装置的成本。其中使用一种有纹理的结构,即在阴极的表面上形成凸起部分。外部的杂散光在被阴极反射时通过凸起部分的作用被广泛地(不规则地)反射。因此可以避免观察者的面部和周围景象被在阴极的表面内反射的缺点。这可以不用一般采用的成本高的圆形偏振膜来实现,因此可以减少制造EL显示装置的成本。 | ||
搜索关键词: | 发光 装置 用于 制造 方法 | ||
【主权项】:
1一种EL显示装置,包括含有阴极、EL层和阳极的EL元件,其中在比较接近EL层的一侧上的阴极表面具有纹理结构。
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