[发明专利]化学机械研磨异常探测装置无效
| 申请号： | 00128962.4 | 申请日： | 2000-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN1345084A | 公开（公告）日： | 2002-04-17 |
| 发明（设计）人： | 赖建兴;施惠绅;曾荣楠;林煌益 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 王志森 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种化学机械研磨异常探测装置包括电动机;逆变器;控制电路,控制逆变器输出的交流电流及工作与否;转速传感器,将电动机的转速转换为转速信号并输出至控制电路;电流探测器,检测电动机的交流电流,并且输出电流信号至中继控制器,中继控制器因此向机械研磨控制器输出驱动信号,机械研磨控制器因此输出停机信号至控制电路。使得能及时探测到晶片在研磨的过程中发生刮伤或破裂的情况,以减少晶片因研磨受损的数量。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 异常 探测 装置 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械研磨异常探测装置，包括：一电动机，用以产生化学机械研磨的动力；一逆变器，连接至该电动机，将一直流电源转换为一交流电源，并将该交流电源供应给该电动机；一控制电路，连接至该逆变器，控制该逆变器所输出的该交流电流的大小及工作与否；一传感器，连接至该电动机与该控制电路之间，将该电动机的转速转换为一转速信号，并输出该转速信号至该控制电路；以及一探测器，连接至该控制电路，探测该逆变器输出至该电动机的该交流电流的大小，以输出一停机信号至该控制电路。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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