[发明专利]跟踪补偿注浆控制地层位移方法无效
| 申请号： | 00135198.2 | 申请日： | 2000-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN1361333A | 公开（公告）日： | 2002-07-31 |
| 发明（设计）人： | 刘建航;刘国彬;侯学渊 | 申请（专利权）人： | 同济大学;上海时空软土工程研究咨询中心 |
| 主分类号： | E02D3/12 | 分类号： | E02D3/12;E02D17/04;E02D31/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200092*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 跟踪补偿注浆控制地层位移方法,在深基坑的围护结构与邻近的建筑物之间地基土内预先埋设由单向阀管,跟踪基坑开挖后地基的变形传递情况,基坑围护结构的支撑情况,利用基坑开挖造成围护结构变形及周围地层位移将引起邻近建筑物发生相应变形的时间差,及时地由上而下逐段对地基进行跟踪补偿注浆。本发明独立进行跟踪注浆,对地基变形的控制及时性高,注浆用量小,施工便捷并能根据基坑的实际情况方便地进行调整,具有良好的适应性。 | ||
| 搜索关键词： | 跟踪 补偿 控制 地层 位移 方法 | ||
【主权项】：
1.跟踪补偿注浆控制地层位移方法，其特征在于：在深基坑的围护结构(5)与邻近的建筑物或者构筑物之间地基土内，在基坑开挖前预先设置注浆孔在注浆孔内设置单向阀管(6)，跟踪基坑开挖后地基土体的变形情况，基坑围护结构(5)的支撑情况，将带有双向密闭注浆头的注浆管(1)插入单向阀管(5)内由上而下逐段进行注浆，每段注浆体的范围设在注浆体相对应的基坑围护结构的支撑部位，直至深基坑底部。
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