[发明专利]纳米银基电接触合金及其制备工艺无效

专利信息
申请号: 00135475.2 申请日: 2000-12-28
公开(公告)号: CN1320711A 公开(公告)日: 2001-11-07
发明(设计)人: 王亚平;张晖;杨志懋;丁秉钧;宋晓平 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: C22C5/06 分类号: C22C5/06;C22C1/04;H01H1/02
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 代理人: 贾玉健
地址: 710049*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 纳米晶银基电接触合金及其制备工艺,利用高能球磨工艺制备出纳米级SnO2、InO2和Ag的复合粉,采用常规工艺制备出AgSnO2系列触点合金。此种AgSnO2触点合金的纳米级(10~100nm)第二相粒子(SnO2、InO2粒子)均匀分布于银基体中,触点电导率升高,抗熔焊和抗电弧侵蚀能力增强。
搜索关键词: 纳米 银基电 接触 合金 及其 制备 工艺
【主权项】:
1、纳米晶银基电接触合金的制备工艺,首先将Ag粉、Sn粉、SnO2粉和InO2粉等粉末进行高能球磨,然后经冷压、烧结成坯,最后经热挤压、热拉拔、轧制或镦制等常规工艺成型,其特征在于,将重量比分别为80~95%的Ag粉、0~15%的Sn粉、0~15%的SnO2粉、0~5%的InO2粉等粉末在空气或氩气环境中高能球磨。高能球磨工艺为:球料比10~100∶1,相应的球磨时间为2~30小时(球料比越大,球磨时间越短)。球磨后粉末的颗粒尺寸为5~50μm,每个粉末颗粒中都为SnO2、InO2纳米粒子弥散分布于纳米晶银基体中,SnO2和InO2的重量比为5~20%。球磨后的纳米复合粉末(可经过预先退火)经20~100MPa冷压、在300~800℃烧结成坯。
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