[发明专利]用于抗反射涂层的有机聚合物和其制备方法有效
| 申请号： | 00136237.2 | 申请日： | 2000-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN1308089A | 公开（公告）日： | 2001-08-15 |
| 发明（设计）人： | 郑旼镐;洪圣恩;郑载昌;李根守;白基镐 | 申请（专利权）人： | 现代电子产业株式会社 |
| 主分类号： | C08F20/32 | 分类号： | C08F20/32;C09D133/14;C09D5/32 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种适合用于抗反射涂层(ARC)的聚合物、含有该聚合物的ARC组合物、其制备方法以及其使用方法。本发明的聚合物特别适用于超微平版印刷工艺,例如使用KrF(248nm)、ArF(193nm)或F2(157nm)激光器作光源的超微平版印工艺。该聚合物包括一种生色团,它能吸收平版印刷工艺中所使用波长的光,从而大大降低或防止了光的背反射和CD变化的问题。本发明的ARC还可大大降低或消除驻波影响及反射缺口。因此,本发明的ARC能形成适用于64M、256M、1G、4G和16GDRAM的半导体装置的、稳定的、超精细结构的图形。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 反射 涂层 有机 聚合物 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种具有如下化学通式聚合物：其中，Ra和Rb独立地为氢或烷基；R1至R9独立地为氢、羟基、烷氧基酰基、羧基、羟烷基，或者可任选取代的C1-C5烷基或烷氧基；w和x是摩尔分数，每一个独立地在0.01至0.99的范围内；以及n是1至4的整数。
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