[发明专利]卤化银反射支持体印相介质无效
| 申请号： | 00137532.6 | 申请日： | 2000-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN1301984A | 公开（公告）日： | 2001-07-04 |
| 发明（设计）人： | M·R·罗伯茨 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | G03C1/46 | 分类号： | G03C1/46;G03C7/30;G03C5/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王景朝,周慧敏 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及多层照相材料,其中支持体之上有至少三层感光记录层、各感光记录层相应有至少一层非感光的形成染料的隔层;还可有含UV染料的隔层以及顶面保护层;每个隔层都基本上没有净化剂,卤化银颗粒含有大于90%的氯化银,卤化银颗粒互易律特性达到以下标准,即对于1微秒和0.4秒的分色曝光而言,每个彩色记录层在相对于产生最小密度以上0.04密度的曝光点处,于1.2或更小曝光量范围对数值之内,显影达到至少2.0密度。 | ||
| 搜索关键词： | 卤化 反射 支持 体印相 介质 | ||
【主权项】：
1．包括反射支持体的多层照相元件，其中邻接于支持体的彩色记录层1包括至少一个感光层和非感光的形成染料的隔层；彩色记录层1之上的彩色记录层2包括至少一个感光记录层和至少两个非感光的形成染料的隔层；而彩色记录层2之上的彩色记录层3包括至少一个感光层和非感光的形成染料的隔层；还包括任选的含UV染料的隔层；以及顶面保护层；其中本发明多层结构的各彩色记录层经时间范围为20纳秒～500秒的一次或多次曝光和显影后产生具有如下性能的染料特性曲线：染料特性曲线的最大斜率值为2.0～5.0；分色曝光和显影后各彩色记录层的最大StatusA反射密度≥1.0；显影后最低StatusA反射密度≤0.300；在最小密度平台加0.04StatusA密度单位和最大密度平台减0.04StatusA密度单位之间的曝光量范围对数值不超过2.0。
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