[发明专利]照相元件,化合物和冲洗加工方法无效
| 申请号： | 00137538.5 | 申请日： | 2000-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN1309327A | 公开（公告）日： | 2001-08-22 |
| 发明（设计）人： | W·J·贝格利;G·M·鲁索;D·T·库尔特 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | G03C7/32 | 分类号： | G03C7/32;G03C7/26;G03C1/08 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 马崇德,王其灏 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了含光敏卤化银乳剂层的照相元件,乳剂层与具有结构式(Ⅰ)的“NB成色剂”相结合;式中术语“NB成色剂”代表结构式(Ⅰ)的成色剂,它形成的染料利用自旋－涂布的左带宽(LBW),至少比溶液形式中同样染料的要少5nm;Y是H或偶合脱落基团;每个Z*是独立地选择的取代基,p是0－2;V是含磺酰胺基的取代基;R4是氢或通过脂族碳原子与碳酰胺基连接的基团;条件是在V、R4和全部Z*中脂族碳原子的总和至少是8个。元件提供一种经改进色调的染料。 | ||
| 搜索关键词： | 照相 元件 化合物 冲洗 加工 方法 | ||
【主权项】：
1．一种照相元件，含光敏卤化银乳剂层，乳剂层与具有结构式(Ⅰ)的“NB成色剂”相结合：其中：术语“NB成色剂”代表结构式(Ⅰ)成色剂，它形成的染料利用自旋-涂布的左带宽(LBW)，至少比溶液形式中同样染料的要少5nm；Y是H或偶合脱落(coupling-off)基团；每个Z*是独立地选择的取代基，p是0-2；V是含磺酰胺基的取代基；R4是氢或通过脂族碳原子与碳酰胺基连接的基团；条件是在V、R4和全部Z*中脂族碳原子的总和至少是8个。
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