[发明专利]照相材料,化合物,和方法无效
| 申请号： | 00138093.1 | 申请日： | 2000-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN1308250A | 公开（公告）日： | 2001-08-15 |
| 发明（设计）人： | W·J·贝格利;F·D·科姆斯;G·M·鲁索 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | G03C1/06 | 分类号： | G03C1/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张元忠,杨九昌 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开的是包含与青色“NB成色剂”相关的具有通式(Ⅰ)的光敏卤化银乳剂层的照相材料,式中“NB成色剂”代表通式(Ⅰ)的成色剂,它形成一种染料,用它旋涂所得的左带宽比相同染料在溶液中至少短5nm;Y为氢或偶合离去基团;每个Z″和Z*是独立地选择的取代基,其中n为0～4,p为0～2;W2代表成杂环基团所需的原子;V为含砜或亚砜的基团;条件是V,所有Z″和所有Z*中脂肪碳原子数总和至少为8。该材料显示改进了的青色染料色调。 | ||
| 搜索关键词： | 照相 材料 化合物 方法 | ||
【主权项】：
1.包含与青色“NB成色剂”相关的具有通式(I)结构的光敏卤化银乳剂层的照相材料：其中：术语“NB成色剂”代表通式(I)的成色剂，它形成一种染料，用它旋涂所得的左带宽(LBW)比相同染料在溶液中至少短5nm；Y为氢或偶合离去基团；Z″和Z*都是彼此独立地选择的取代基，其中n为0～4，p为0～2；W2代表成杂环基团所需的原子；并且V为含砜或亚砜的基团；条件是V，所有Z″和所有Z*中脂肪碳原子数总和至少为8。
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