[实用新型]晶片烧结炉气循改进结构无效
| 申请号： | 00217689.0 | 申请日： | 2000-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN2427786Y | 公开（公告）日： | 2001-04-25 |
| 发明（设计）人： | 林义能 | 申请（专利权）人： | 林义能 |
| 主分类号： | F27D7/06 | 分类号： | F27D7/06 |
| 代理公司： | 上海市华润律师事务所 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 台湾省台北*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种晶片烧结炉气循改进结构,包括一进气结构,一扰流结构,一排气结构及前、后气闸等,其主要是由一进气结构,将其进气孔设定方向,将惰性气体(如氮气或氨气等)送向炉膛内并在排气口端适当位置设置扰流结构,使送入炉内的气体形成一回流,而后在排气结构控制排出,同时配合炉体两端向炉内斜向送风的气闸阻绝炉内气体逸出及外界空气的进入,达到使炉内各横断面上任何区域温度均衡,烧成曲线控制准确,且保持炉内气体的纯度。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 烧结炉 改进 结构 | ||
【主权项】：
1、一种晶片烧结炉气循改进结构，包括：进气结构、扰流结构、排气结构、气闸输送带等，其特征在于：进气结构(1)由进气管(11)和进气孔(12)组成，其进气孔(12)设计为朝向炉膛方向；在排气结构(4)的适当位置设置有扰结构(2)；气闸(3)设置在炉体的两端。
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